Двухкатодный источник фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы

Abstract

Описаны устройство и принцип действия нового двухкатодного источника фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы. Приведены результаты зондовых измерений ионной компоненты выходного плазменного потока в зависимости от величины и геометрии распределения магнитных полей в плазмоведущих каналах источника. Системный коэффициент эффективности устройства составляет ~ 2,5 %. Показана возможность управления диаграммой распределения плотности выходного ионного тока системы. Неравномерность распределения концентрации компонентов покрытия при использовании катодов из разных металлов (алюминия и титана) – около ± 6,5 %.

Описані будова та принцип дії нового двохкатодного джерела фільтрованої вакуумно-дугової плазми. Наведено результати зондових вимірювань іонної компоненти вихідного плазмового потоку в залежності від величини та геометрії розподілу магнітних полів плазмоведучих каналів. Системний коефіцієнт ефективності пристрою становить ~ 2,5 %. Нерівномірність розподілу концентрації компонентів композиційного покриття, одержуваного при використанні двох різних металів (титану та алюмінію), не перевищує ± 6,5 %.

The device and principle of operation of the new two-cathode filtered vacuum arc plasma source are discussed. Results of probe measurements of ion components of an output plasma stream depending on magnitude and distribution geometry of magnetic fields in plasma guiding channels of the source are presented. The system effectiveness ratio of the device makes ~ 2,5 %. The possibility of control of the ion current density distribution diagram is shown. Inhomogeneity of component concentration distribution of the coating at use of the cathodes from different metals (aluminium and titanium) is about ± 6,5 %.