Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters

Abstract

Basic problems arising at the processing of the insulation of p-n transition of photo converters at the conditions of batch production with the use of the industrial plant "Carter" are determined. The way of elimination of these problems is shown. The modernized plant "Carter" has an advantage over their foreign analogues.

Визначені основні проблеми, які виникають при проведенні процесу ізоляції емітерного р-n переходу фотоелектричних перетворювачів в умовах їхнього серійного виробництва на промисловому приладі "Картер". Продемонстровано шлях усунення цих проблем. Наведені переваги модернізованого приладу "Картер" перед його іноземним аналогом при промисловому виробництві кремнієвих фотоелектричних перетворювачів.

Определены основные проблемы, возникающие при проведении процесса изоляции эмиттерного р-n перехода фотоэлектрических преобразователей в условиях их серийного производства на промышленной установке "Картер". Продемонстрирован путь устранения этих проблем. Приведены преимущества модернизированной установки типа "Картер" перед ее зарубежным аналогом при промышленном производстве кремниевых фотоэлектрических преобразователей.