Периодическая структура в фоточувствительной композитной пленке при возбуждении предельной ТЕ₀ моды подложки

Abstract

Описаны свойства фоточувствительной тонкопленочной композиции AgCl-Ag и ее способность к генерации периодической структуры (ПС) под действием линейно поляризованного лазерного пучка. Отмечена связь в развитии ПС с волноводными свойствами системы пленка-подложка. Особое внимание уделено случаю развития ПС при возбуждении рассеянным светом предельной ТЕ₀ моды подложки. Для «толстых» (≥1 мм) подложек и тонких пленок (меньше толщины отсечки ТЕ₀ моды пленки) ПС всегда развивается за счет возбуждения предельной моды подложки. При этом, измерения угла дифракции от ПС дает возможность найти показатель преломления подложки. Показано, что такая же ситуация сохраняется и для «тонкой» (≈0,1 мм) подложки, несмотря на то, что в ней хорошо выражена дискретность других ТЕm мод.

Надано опис властивостей фоточутливої тонкоплівкової композиції AgCl-Ag і її спроможності до генерації періодичної структури (ПС) під дією лінійно поляризованого лазерного пучка. Відзначено зв’язок у розвитку ПС із хвилеводними властивостями системи плівка-підкладка. Особлива увага приділена випадку, коли ПС створюється при збудженні розсіяним світлом граничної ТЕ₀ моди підкладки. Для «товстих» (≥1 мм) підкладок і тонких плівок (менших товщини відсічки моди плівки) ПС завжди розвивається за рахунок збудження граничної моди підкладки. При цьому, виміри кута дифракції від ПС дають можливість знайти показник заломлення підкладки. Показано, що ця ситуація зберігається і для «тонкої» (≈0,1 мм) підкладки, незважаючи на те, що у ній добре спостерігається дискретність інших ТЕm мод.

The properties of the thin film of the photosensitive composition and its ability to generate a periodic structure (PS) by a linearly polarized laser beam were reported. It was found the correlation between the developments of PS and the waveguide properties of the film-substrate system. Particular attention was paid to the case of PS by the excitation of the scattered light of limit mode of the substrate. For the «thick» (1 mm) substrates and thin films (less than the thickness of the cut-off mode of film) PS is always developing due to the excitation of the limit mode of the substrate. At the same time, measuring of the diffraction angle from the PS gives possibility to find the refractive index of the substrate. It is shown that the same situation takes place also for «thin» (0.1 mm) of the substrate, despite the fact that the discreteness other modes is well expressed.