Резонансный метод определения толщин вакуумно-осажденных тонких пленок

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення фізики і астрономії
→
Радіофізика та електроніка
→
Радіофізика та електроніка, 2008 (том 13)
→
Радіофізика та електроніка, 2008, № 2
→
Переглянути статтю

Резонансный метод определения толщин вакуумно-осажденных тонких пленок

Кузьмин, А.В. ; Семененко, В.Е. ; Стервоедов, Н.Г. ; Посухов, А.С.

Інші назви: Резонансний метод визначення товщин вакуумно-осаджених тонких плівок
Thickness determining of vacuum evaporated thin films by resonance method

Тема: Радиофизика твердого тела и плазмы

УДК: 539.234:548

URI: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/10576

Посилання: Резонансный метод определения толщин вакуумно-осажденных тонких пленок / А.В. Кузьмин, В.Е. Семененко, Н.Г. Стервоедов, А.С. Посухов // Радіофізика та електроніка. — 2008. — Т. 13, № 2. — С. 214-217. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.

Дата: 2008

Завантажень: 2258

Резонансный метод определения толщин вакуумно-осажденных тонких пленок

Анотація:

В данной работе рассмотрен метод измерения толщины нанесённой плёнки и скорости её напыления методом кварцевого датчика. Установлено, что при помощи резонансного метода может быть осуществлен непрерывный контроль толщин тонких пленок в диапазоне 10-100 нм. Определена структура пленок никеля и зависимость их толщин от резонансной частоты кварцевого кристалла.

У роботі розглянуто метод визначення товщини плівки та швидкості її нанесення методом кварцового датчика. Встановлено, що за допомогою резонансного методу стає можливим здійснення безперервного контролю товщин тонких плівок у діапазоні 10-100 нм. Визначена структура плівок нікелю та залежність їх товщин від резонансної частоти кварцового кристалу.

This work deals with the methods of thickness measuring of the coated film by means of a quartz sensor. Nickel films thickness dependence on quartz crystal resonance frequency were obtained and graphically presented.

Показати повний запис статті