Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України
періодичних видань НАН України
Методы удаления дефектов, возникающих при жидкостном травлении поверхности поликристаллического кремния
Репозиторій DSpace/Manakin
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.
Методы удаления дефектов, возникающих при жидкостном травлении поверхности поликристаллического кремния
Інші назви:
Методи видалення дефектів, що виникають при рідинному травленні поверхні полікристалічного кремнію
Methods of removal of defects arising at liquid etching of polycrystalline silicon
Methods of removal of defects arising at liquid etching of polycrystalline silicon
Тема:
Технологические процессы и оборудование
Посилання:
Методы удаления дефектов, возникающих при жидкостном травлении поверхности поликристаллического кремния / А.Э. Иванчиков, А.М. Кисель, А.Б. Медведева, В.И. Плебанович // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2008. — № 1. — С. 42-47. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
Дата:
2008
Переглядів:
772
Завантажень:
1380
Анотація:
Рассмотрены модель возникновения дефектов на поверхности поликристаллического кремния при обработке полупроводниковых пластин в травителе, а так-же модель удаления этих дефектов в растворах химикатов.
