Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України
періодичних видань НАН України
Адсорбционно-кинетическая модель осаждения пленок поликристаллического кремния, легированных фосфором в процессе роста
Репозиторій DSpace/Manakin
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.
Адсорбционно-кинетическая модель осаждения пленок поликристаллического кремния, легированных фосфором в процессе роста
Інші назви:
Адсорбційно-кінетична модель осаджування плівок полікристалічного кремнію, легованих фосфором в процесі зростання
The adsorptive-kinetic model of in-situ phosphorus doped film polysilicon deposition process
Адсорбционно-кинетическая модель осаждения пленок поликристаллического кремния, легированных фосфором в процессе роста / О.Ю. Наливайко, А.С. Турцевич // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 6. — С. 50-55. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.
The adsorptive-kinetic model of in-situ phosphorus doped film polysilicon deposition process
Адсорбционно-кинетическая модель осаждения пленок поликристаллического кремния, легированных фосфором в процессе роста / О.Ю. Наливайко, А.С. Турцевич // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 6. — С. 50-55. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.
Тема:
Материалы электроники
Посилання:
Адсорбционно-кинетическая модель осаждения пленок поликристаллического кремния, легированных фосфором в процессе роста / О.Ю. Наливайко, А.С. Турцевич // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 6. — С. 50-55. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.
Дата:
2009
Переглядів:
906
Завантажень:
679
Анотація:
Определена область оптимальных соотношений потоков PH₃/SiH₄ и температуры осаждения, обеспечивающих приемлемую скорость и однородность осаждения, высокий уровень легирования и конформное заполнение топологического рельефа пленками ПКЛФ.
