Research of a vacuum diffusion boron silicification process for constructional materials

Abstract

In this work process of vacuum diffusion boron silicification of materials in sodium chloride vapour were researched. Gaseous medium composition was found by using the thermodynamic calculations of chemical reactions between NaCl vapour and the components of saturating powder mixture in the process for the temperature T = 1400 − 1600 K and pressure P = 1.33 − 1333 Pa, when the content of boron is 1 weight percent and 10 weight percent in backfilling. Formation mechanism of diffusion layer оn example of the vacuum activated boron silicification of graphite was determined. Keywords: boron silicification, diffusion saturation, activator, vacuum, graphite.

В работе были проведены исследования механизма процесса вакуумного диффузионного боросилицирования материалов в парах хлористого натрия. Используя термодинамический расчет химических реакций между парами активатора и компонентами насыщающей порошковой смеси был определен состав газовой среды в этом процессе для температур Т = 1400 – 1600 К и давлений Р = 1.33 – 1333 Па, при содержании бора 1 и 10 вес.% в засыпке. На примере вакуумного активированного боросилицирования графита установлен механизм образования диффузионного слоя.

В роботі були проведені дослідження механізму процесу вакуумного дифузійного боросиліціювання матеріалів у парах хлористого натрію. Використовуючи термодинамічний розрахунок хімічних реакцій між парами активатора та компонентами насичуючої порошкової суміші був визначений склад газового середовища у цьому процесі для температур Т = 1400 – 1600 К та тисків Р = 1.33 – 1333 Па, при вмісті бору 1 та 10 ваг.% в засипці. На прикладі вакуумного активованого боросиліціювання графіту встановлено механізм утворення дифузійного шару