Исследована зависимость твердости наструктурных вакуумно-дуговых TiN покрытий от давления азота в процессе осаждения в диапазоне 0,02 ÷ 1 Па. Показано, что в отличие от обычных
вакуумно-дуговых TiN покрытий явно выраженной зависимости от давления не имеется, однако
заметна тенденция к повышению твердости с его увеличением. Количество капельной фазы в
покрытиях, осажденных при низком давлении азота (0,02 Па), остается относительно большим,
несмотря на наличие высоковольтных импульсов на подложке в процессе осаждения. В
покрытиях, осажденных при давлении 0,66 Па и более, капельная фаза отсутствует.
Досліджено залежність твердості надтвердих
вакуумно-дугових TіN покриттів від тиску азоту
в процесі осадження в діапазоні 0,02 ÷ 1 Па. Показано, що на відміну від звичайних вакуумно-дугових TіN покриттів явно вираженої залежності від тиску немає, однак помітна тенденція
до підвищення твердостіз його збільшенням. Кількість краплинної фази в покриттях, осаджених
при низькому тиску азоту (0,02 Па), залишається
відносно великим, незважаючи на наявність високовольтних імпульсів на подкладинці в процесі
осадження. У покриттях, осаджених при тиску
0,66 Па й більше, краплинна фаза відсутня.
The hardness of superhard vacuum-arc TiN coatings
has been investigated versus nitrogen pressure during
deposition in the pressure range from 0,02 to 1 Pa. It
has been demonstrated that unlike usual vacuum-arc
TiN coatings, the superhard coatings show no pronounced
dependence on pressure, though there is a noticeable
tendency for hardness to increase with pressure.
The quantity of drop phase in the coatings deposited
at a low nitrogen pressure (0,02 Pa) remains
relatively great despite the presence of high-voltage
pulses on the substrate during deposition. In the coatings
deposited at a pressure of 0,66 Pa and higher,
the drop phase is absent.