Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення фізико-технічних проблем матеріалознавства
→
Современная электрометаллургия
→
Современная электрометаллургия, 2003
→
Современная электрометаллургия, 2003, № 1
→
Переглянути статтю

dc.contributor.author	Мовчан, Б.А.
dc.contributor.author	Устинов, А.И.
dc.contributor.author	Полищук, С.С.
dc.contributor.author	Мельниченко, Т.В.
dc.date.accessioned	2016-02-08T12:53:15Z
dc.date.available	2016-02-08T12:53:15Z
dc.date.issued	2003
dc.identifier.citation	Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si / Б.А. Мовчан, А.И. Устинов, С.С. Полищук, Т.В. Мельниченко // Современная электрометаллургия. — 2003. — № 1. — С. 15-18. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.	uk_UA
dc.identifier.issn	0233-7681
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/94056
dc.description.abstract	Изучены структурные изменения в микрослойных покрытиях (Ti,Cr)-Si в процессе изотермических отжигов при температурах 800, 1000 и 1100 °С. Микрослойную структуру получали путем электронно-лучевого испарения двух слитков (Ti-Cr и Si) и конденсации в вакууме несмешивающихся паровых потоков. Показано, что при диффузионном взаимодействии между слоями микрослойная структура покрытия разрушается и образуется структура на основе икосаэдрической (или аппроксимантной к ней) фазы.	uk_UA
dc.language.iso	ru	uk_UA
dc.publisher	Інститут електрозварювання ім. Є.О. Патона НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Современная электрометаллургия
dc.subject	Электронно-лучевые процессы	uk_UA
dc.title	Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si	uk_UA
dc.title.alternative	Formation of quasi-crystalline structures in annealing of microlayer coatings (Ti, Cr)-Si	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA