Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. II. Численный эксперимент

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Лизунов, В.В.
dc.contributor.author Кочелаб, Е.В.
dc.contributor.author Скакунова, Е.С.
dc.contributor.author Лень, Е.Г.
dc.contributor.author Молодкин, В.Б.
dc.contributor.author Олиховский, С.И.
dc.contributor.author Толмачёв, Н.Г.
dc.contributor.author Шелудченко, Б.В.
dc.contributor.author Лизунова, С.В.
dc.contributor.author Скапа, Л.Н.
dc.date.accessioned 2015-11-06T19:15:40Z
dc.date.available 2015-11-06T19:15:40Z
dc.date.issued 2015
dc.identifier.citation Дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. II. Численный эксперимент / В.В. Лизунов, Е.В. Кочелаб, Е.С. Скакунова, Е.Г. Лень, В.Б. Молодкин, С.И. Олиховский, Н.Г. Толмачёв, Б.В. Шелудченко, С.В. Лизунова, Л.Н. Скапа // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2015. — Т. 13, № 2. — С. 349–370. — Бібліогр.: 19 назв. — рос. uk_UA
dc.identifier.issn 1816-5230
dc.identifier.other PACS numbers: 07.85.Jy, 61.05.cc, 61.05.cf, 61.05.cp, 61.46.Hk, 61.72.Dd, 68.55.jd
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/87995
dc.description.abstract На основе построенной в первой части работы обобщённой модели дисперсионночувствительной дифрактометрии неидеальных кристаллов произвольной толщины проведён анализ дифференциальных и интегральных картин рассеяния для широкого интервала эффективных толщин кристалла. uk_UA
dc.description.abstract На основі побудованої у першій частині роботи узагальненої моделі дисперсійночутливої дифрактометрії неідеальних кристалів довільної товщини проведено аналіз диференційних та інтеґральних картин розсіяння для широкого інтервалу ефективних товщин кристалу. uk_UA
dc.description.abstract Based on generalized model of dispersion-sensitive diffractometry constructed in the first part for imperfect crystals of arbitrary thickness, the analysis of differential and integral scattering patterns for a wide range of effective thickness of the crystal is carried out. uk_UA
dc.language.iso ru uk_UA
dc.publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
dc.title Дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. II. Численный эксперимент uk_UA
dc.title.alternative The Dispersion Sensitivity of Scattering Pattern to Defects Depending on Thickness of Crystalline Products of Nanotechnologies. II. Numerical Experiment uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис