Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

High-productive source of the cathodic vacuum-arc plasma with the rectilinear filter

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Vasylyev, V.V.
dc.contributor.author Luchaninov, A.A.
dc.contributor.author Strel’nitskij, V.E.
dc.date.accessioned 2015-04-09T08:09:35Z
dc.date.available 2015-04-09T08:09:35Z
dc.date.issued 2013-10-23
dc.identifier.citation High-productive source of the cathodic vacuum-arc plasma with the rectilinear filter / V.V. Vasylyev, A.A. Luchaninov, V.E. Strel’nitskij // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 1. — С. 97-100. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.other PACS: 52.50.Dg; 81.15.-z
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/79933
dc.description.abstract The design and performance of high productive cathodic vacuum arc plasma source with rectilinear “magnetic island” filter, which is suitable for industrial applications, are briefly described. The device is characterized by achievable output ion current up to 4 A at an arc current of 100 A, Ti coating deposition rate at a distance of 150 mm from the outlet is 20 micron/hour within the circle of 180 mm diameter. In terms of productivity and quality of plasma purification from particulates the developed plasma source is superior to world analogues by 1.5...2 times. uk_UA
dc.description.abstract Приведено краткое описание конструкции и характеристик высокопроизводительного, пригодного для промышленного применения, вакуумно-дугового источника плазмы с прямолинейным фильтром типа «магнитный остров». Достижимый выходной ионный ток источника – 4 А при токе дуги 100 А. Скорость осаждения Ti-покрытия на расстоянии 150 мм…20 мкм/ч в пределах круга диаметром 180 мм. По производительности и качеству очистки от макрочастиц разработанное устройство превосходит мировые аналоги в 1,5…2 раза. uk_UA
dc.description.abstract Наведено скорочений опис конструкції та характеристики високопродуктивного, придатного для промислового застосування, вакуумно-дугового джерела плазми з прямолінійним фільтром типу «магнітний острів». Досяжний вихідний іонний струм джерела – 4 А при струмі дуги 100 А. Швидкість осадження Ti-покриття на відстані 150 мм…20 мкм/год у межах кола з діаметром 180 мм. За продуктивністю та якістю очищення від макрочасток розроблений пристрій перевершує світові аналоги в 1,5…2 рази. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher National Science Centеr “Kharkov Institute of Physics and Technology”, Kharkov, Ukraine uk_UA
dc.relation.ispartof Вопросы атомной науки и техники
dc.subject Физика и технология конструкционных материалов uk_UA
dc.title High-productive source of the cathodic vacuum-arc plasma with the rectilinear filter uk_UA
dc.title.alternative Высокопроизводительный вакуумно-дуговой источник плазмы с прямолинейным фильтром uk_UA
dc.title.alternative Високопродуктивне вакуумно-дугове джерело плазми з прямолінійним фільтром uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис