The modified 200 keV pulsed electron beam source for the VEPP-5 injection complex

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення ядерної фізики та енергетики
→
Вопросы атомной науки и техники
→
Bопросы атомной науки и техники, 2006
→
Вопросы атомной науки и техники, 2006, № 3
→
Переглянути статтю

dc.contributor.author	Akimov, A.V.
dc.contributor.author	Akimov, V.E.
dc.contributor.author	Bak, P.A.
dc.contributor.author	Kazarezov, I.V.
dc.contributor.author	Korepanov, A.A.
dc.contributor.author	Kulenko, Ya.V.
dc.contributor.author	Ribitskaia, T.V.
dc.contributor.author	Kuznetsov, G.I.
dc.contributor.author	Pachkov, A.A.
dc.contributor.author	Tiunov, M.A.
dc.date.accessioned	2015-04-04T12:33:08Z
dc.date.available	2015-04-04T12:33:08Z
dc.date.issued	2006
dc.identifier.citation	The modified 200 keV pulsed electron beam source for the VEPP-5 injection complex / A.V. Akimov, V.E. Akimov, P.A. Bak, I.V. Kazarezov, A.A. Korepanov, Ya.V. Kulenko, T.V. Ribitskaia, G.I. Kuznetsov, A.A. Pachkov, M.A. Tiunov // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 3. — С. 84-86. — Бібліогр.: 3 назв. — англ.	uk_UA
dc.identifier.issn	1562-6016
dc.identifier.other	PACS: 27.17.+w
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/79734
dc.description.abstract	The modified pulsed electron beam source on voltage 200 kV and current 10 A with half-height pulse duration 2.5 ns and repetition rate 50 Hz is described. The source gun has been performed on the base of impregnated cathode with 20 mm diameter. The cathode pulse voltage is formed by storage capacitance discharge through IGBT switch and pulse transformer. The gun control unit located at the high voltage potential produces cathode heat voltage and control grid voltage. The source test results are presented.	uk_UA
dc.description.abstract	Описан модифицированный источник электронного пучка на напряжение 200 кВ, импульсный ток до 10 А, длительность импульса на полувысоте 2,5 нс при частоте следования 50 Гц. Источник выполнен на базе импрегнированного катода диаметром 20 мм. Импульсное напряжение на катоде пушки формируется путем разряда накопительной емкости через IGBT-ключ и импульсный трансформатор. Блок управления пушкой, расположенный под высоким потенциалом, формирует напряжение накала и сеточное напряжение. Приведены результаты испытаний источника.	uk_UA
dc.description.abstract	Описано модифіковане джерело електронного пучка на напругу 200 кВ, імпульсний струм до 10 А, тривалість імпульсу на напіввисоті 2,5 нс при частоті проходження 50 Гц. Джерело виконане на базі імпрегнуваного катоду діаметром 20 мм. Імпульсна напруга на катоді гармати формується шляхом розряду накопичувальної ємності через ІGBT-ключ і імпульсний трансформатор. Блок керування гарматою, розташований під високим потенціалом, формує напругу накалу і сіткову напругу. Наведено результати випробувань джерела.	uk_UA
dc.language.iso	en	uk_UA
dc.publisher	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Вопросы атомной науки и техники
dc.subject	Ускорители заряженных частиц	uk_UA
dc.title	The modified 200 keV pulsed electron beam source for the VEPP-5 injection complex	uk_UA
dc.title.alternative	Модифицированный 200 кэВ импульсный источник электронного пучка для форинжектора комплекса ВЭПП-5	uk_UA
dc.title.alternative	Модифіковане 200 кеВ імпульсне джерело електронного пучка для форінжектора комплексу ВЕПП-5	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA