Распределение атомов на поверхности при конденсации моноатомного слоя

Abstract

Теоретически изучаются особенности осаждения атомов на поверхность. Предполагается, что условия осаждения обеспечивают формирование только одного слоя. Основное внимание обращается на особенности микрораспределений в пределах монослоя и ожидаемое влияние этих особенностей на наблюдаемые свойства поверхности. Выявлены условия реализации разных форм заполнения поверхности: разреженная пленка, сплошное покрытие, пятнистая и мозаичная структуры. Обсуждаются изменения распределений при варьировании температуры и возможности практического использования полученной информации.

Теоретично вивчаються особливості осадження атомів на поверхню. Припускається, що умови осадження забезпечують формування лише одного шару. Головним чином увага звертається на особливості мікророзподілів в межах моношару та очікуваний вплив цих особливостей на спостережувані властивості поверхні. Виявлені умови реалізації різних форм заповнення поверхні: розріджена плівка, безперервне покриття, плямиста та мозаїчна структури. Обговорюються зміни розподілень під час варіювання температури та можливості практичного використання отриманої інформації.

Peculiarities of atoms sedimentation on the surface are theoretically explored. It is assumed that sedimentation conditions provide only one film formation. This article is zeroed in microdistributions’ peculiarities within monolayer and theirs expected influence on the observed surface properties. Implementation conditions for different forms of surface filling are revealed: thinned film, continuous coating, speckled and mosaic structures. The variation of distributions when temperature varies and possibility of obtained information practical use are discussed.