Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Дудин, С.В. |
|
dc.contributor.author |
Яцков, А.П. |
|
dc.contributor.author |
Фареник, В.И. |
|
dc.date.accessioned |
2014-11-12T08:00:37Z |
|
dc.date.available |
2014-11-12T08:00:37Z |
|
dc.date.issued |
2002 |
|
dc.identifier.citation |
Оборудование для зондовой диагностики и контроля плазменных технологических процессов / С.В. Дудин, А.П. Яцков, В.И. Фареник // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 3. — С. 43-50. — Бібліогр.: 24 назв. — рос. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
2225-5818 |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70774 |
|
dc.description.abstract |
Проведен обзор методов и устройств зондового контроля плазменных технологических процессов. Описана серия приборов «Контроль», использующих специально разработанные схемы компенсации и обработки зондового сигнала, а также оригинальные алгоритмы анализа кривых травления. Описан также универсальный прибор «Плазмометр», предназначенный для автоматизированного определения ключевых параметров лабораторной и технологической плазмы. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
The review of methods and devices for probe control of plasma technological processes is carried out. A series of "Kontrol" devices using specially designed schemes of the probe signal compensation and processing as well as original algorithms of the analysis of etching curves is described. Versatile instrument "PlasmaMeter" designed for automated definition of key parameters of laboratory and technological plasma is described too. |
uk_UA |
dc.language.iso |
ru |
uk_UA |
dc.publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|
dc.subject |
Новое технологическое оборудование для микроэлектроники |
uk_UA |
dc.title |
Оборудование для зондовой диагностики и контроля плазменных технологических процессов |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Equipment for probe diagnostics and control of plasma technology processes |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
dc.identifier.udc |
533.9.082.5 |
|
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті