Фотоозонолиз метильных групп, хемосорбированных на поверхности пирогенного кремнезема

Abstract

Исследование химических превращений в модифицирующем слое при фотоозонолизе проводили на образцах пирогенных кремнеземов с различным количеством химически закрепленных на поверхности метильных групп. Обнаруженные в этом ряду различия в скорости гидрофилизации и изменения интенсивности полос поглощения валентных колебаний Si–OH во время обработки отличались от ожидаемых. Сделан вывод о зависимости скорости деструкции метильных групп на поверхности пирогенного кремнезема не только от концентрации, но и от способа их размещения — топографии.

Дослідження хімічних перетворень у модифікувальному шарі при фотоозонолізі здійснювали на зразках пірогенних кремнеземів із різною кількістю хімічно закріплених на поверхні метильних груп. Виявлені в цьому яді розходження щодо швидкості гідрофілізації та зміни інтенсивності смуг поглинання валентних коливань Sі–OH під час обробки відрізнялися від очікуваних. Зроблено висновок про залежність швидкості деструкції метильних груп на поверхні пірогенного кремнезему не тільки від концентрації, але й від способу розміщення їх — топографії.

Investigation of chemical transformations in the adsorbed layer of fumed silica with different number of methyl groups under condition of photoozonolysis was carried out. The noticed hydrophylization rates and the changes of intensity of Si–OH valent vibration absorption bands differed from expected ones. The conclusion was drawn about dependence of destruction rate of methyl groups in adsorbed layer of fumed silica not only on their number, but on their topography.