Коррекция оптических эффектов близости при проектировании микросхем

dc.contributor.author	Родионов И.А., И.А.
dc.contributor.author	Макарчук, В.В.
dc.date.accessioned	2014-01-07T18:46:50Z
dc.date.available	2014-01-07T18:46:50Z
dc.date.issued	2007
dc.identifier.citation	Коррекция оптических эффектов близости при проектировании микросхем / И.А. Родионов, В.В. Макарчук // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2007. — № 3. — С. 30-32. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.	uk_UA
dc.identifier.issn	2225-5818
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/52809
dc.description.abstract	На основании проведенных исследований был спроектирован фотошаблон для отработки режимов фотолитографии и дальнейшего изучения влияния эффектов оптической близости.	uk_UA
dc.language.iso	ru	uk_UA
dc.publisher	Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Технология и конструирование в электронной аппаратуре
dc.subject	Электронные средства: исследования, разработки	uk_UA
dc.title	Коррекция оптических эффектов близости при проектировании микросхем	uk_UA
dc.title.alternative	Корекція оптичних ефектів близькості при проектуванні мікросхем	uk_UA
dc.title.alternative	Optical proximity correction in IC production	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA