Плівкоутворюючі матеріали та багатошарові покриття інтерференційної оптики технологічних ІЧ-лазерів

Abstract

Наведено результати робіт по впровадженню розроблених плівкоутворюючих матеріалів (ПУМ) для інтерференційної оптики приладів ІЧ-діапазону, зокрема технологічних лазерів. Розроблено технології синтезу та технічні умови ПУМ на основі BaY₂F₈ і ZnS—Gd₂S₃, оптимізовано умови нанесення з них тонкоплівкових покриттів. Установлено, що інтерференційні покриття на основі створених ПУМ за своїми оптичними і експлуатаційними властивостями не поступаються, а за шириною області прозорості (7,5—12,5 мкм) і механічною міцністю (0 група) перевершують покриття зі стандартних ПУМ (ZnS, YF₃, ThF₄ ).

Приведены результаты работ по внедрению разработанных пленкообразующих материалов (ПОМ) для интерференционной оптики приборов ИК-диапазона, в частности технологических лазеров. Разработаны технологии синтеза и технические условия ПОМ на основе BaY₂F₈ и ZnS—Gd₂S₃, оптимизированы условия нанесения из них тонкопленочных покрытий. Показано, что интерференционные покрытия на основе созданных ПОМ по своим оптическим и эксплуатационным свойствам не уступают, а по ширине области прозрачности (7,5—12,5 мкм) и механической прочности (0 группа) превосходят покрытия из стандартных ПОМ (ZnS, YF₃, ThF₄).

The results of the introduction of the developed filmforming materials (FFM) for interference optics for IR range devices, technological lasers, in particular, are presented. Technologies of synthesis and technical conditions for FFM based on BaY₂F₈ and ZnS–Gd₂S₃ are developed, and conditions of drawing thin-film coatings from them are optimized. It is shown, that interference coatings based on created FFМ according to their optical and operational properties do not concede, but out-perform the coatings from standard FFМ (ZnS, YF₃, ThF₄) for the transparency domain width (7,5— 12,5 microns) and mechanical durability (0 group).