Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Gritsyna, V.I. |
|
dc.contributor.author |
Opalev, O.A. |
|
dc.contributor.author |
Strel’nitskij, V.E. |
|
dc.date.accessioned |
2023-11-29T09:17:49Z |
|
dc.date.available |
2023-11-29T09:17:49Z |
|
dc.date.issued |
2019 |
|
dc.identifier.citation |
Dc glow discharge for synthesis diamond films with high growth rate / V.I. Gritsyna, O.A. Opalev, V.E. Strel’nitskij // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 176-179. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
1562-6016 |
|
dc.identifier.other |
PACS: 52.70.Ds; 52.70 Kz |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194713 |
|
dc.description.abstract |
The results of experiments on further investigation of the growth kinetics of diamond films in a dc glow discharge on modernized equipment are presented. As a result of the research, it was possible to expand the possibilities of using equipment for the synthesis of diamond films in a glow discharge with a grounded substrate holder. The diamond film growth rates were 3-4 times higher than those obtained in earlier experiments while maintaining high structural characteristics of the synthesized diamond film. The maximum growth rate was 12 μm/h at the pressure of the hydrogen-methane mixture in the discharge chamber of 180 mm Hg. The possibility of obtaining both polycrystalline diamond films without pronounced texture and high-textured diamond films with an orientation of the surface of diamond crystallites (100) parallel to the sample surface is demonstrated. Thus, the presented hydrogen-methane mixture activation system for the synthesis of diamond films is promising for use in technological applications. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Наведено результати експериментів щодо подальшого дослідження кінетики росту алмазних плівок у тліючому розряді постійного струму на модернізованому обладнанні. В результаті проведених досліджень вдалося розширити можливості застосування обладнання для синтезу алмазних плівок у тліючому розряді з заземленим підкладкотримачем. Були досягнуті швидкості росту алмазної плівки, що в 3-4 рази перевищують отримані в попередніх експериментах при збереженні високих структурних характеристик синтезованої алмазної плівки. Отримана максимальна швидкість росту склала 12 мкм/год при тиску воднево-метанової суміші в камері розряду 180 мм рт. ст. Показана можливість отримання як полікристалічних алмазних плівок без явно вираженої текстури, так і високотекстурірованих алмазних плівок з орієнтацією поверхні кристалітів алмазу (100) паралельно поверхні зразка. Таким чином, представлена система активації воднево-метанової суміші для синтезу алмазних плівок представляється перспективною для застосування в технологічних цілях. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Приведены результаты экспериментов по дальнейшему исследованию кинетики роста алмазных пленок в тлеющем разряде постоянного тока на модернизированном оборудовании. В результате проведенных исследований удалось расширить возможности применения оборудования для синтеза алмазных пленок в тлеющем разряде с заземленным подложкодержателем. Были достигнуты скорости роста алмазной пленки, в 3-4 раза превышающие полученные в более ранних экспериментах при сохранении высоких структурных характеристик синтезируемой алмазной пленки. Полученная максимальная скорость роста составила 12 мкм/ч при давлении водородно-метановой смеси в камере разряда 180 мм рт. ст. Показана возможность получения как поликристаллических алмазных пленок без явно выраженной текстуры, так и высокотекстурированных алмазных пленок с ориентацией поверхности кристаллитов алмаза (100) параллельно поверхности образца. Таким образом, представленная система активации водородно-метановой смеси для синтеза алмазного материала представляется перспективной для применения в технологических целях. |
uk_UA |
dc.language.iso |
en |
uk_UA |
dc.publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Вопросы атомной науки и техники |
|
dc.subject |
Low temperature plasma and plasma technologies |
uk_UA |
dc.title |
Dc glow discharge for synthesis diamond films with high growth rate |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Тліючий розряд постійного струму для синтезу алмазних плівок з високої швидкістю росту |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Тлеющий разряд постоянного тока для синтеза алмазных пленок с высокой скоростью роста |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті