Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Kovtun, Yu.V.
dc.contributor.author Kuprin, A.S.
dc.contributor.author Lunev, V.M.
dc.date.accessioned 2023-11-29T09:13:57Z
dc.date.available 2023-11-29T09:13:57Z
dc.date.issued 2019
dc.identifier.citation Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes / Yu.V. Kovtun, A.S. Kuprin, V.M. Lunev // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 145-148. — Бібліогр.: 25 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.other PACS: 52.80.-s; 52.80.Mg
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194705
dc.description.abstract The work deals with the influence of argon pressure on the ion current of vacuum-arc discharge in the “Bulat-6” setup with Cr-Cu-Zr-cathodes, and also, on the rate of coating deposition on the surfaces being perpendicular and parallel to the plasma stream. It is shown that a substantial decrease in both the ion current density and the rate of coating deposition takes place at Ar pressure above 1 Pa. Consideration is given to the elementary processes occurring during plasma stream-gas target interaction. uk_UA
dc.description.abstract Досліджено впливи тиску аргону на іонний струм вакуумно-дугового розряду в установці «Булат-6» з Cr-, Cu-, Zr-катодами, а також на швидкість осадження покриттів на поверхні перпендикулярні і паралельні плазмовому потоку. Показано, що істотні зменшення густини іонного струму і швидкості осадження покриттів відбуваються при тиску Ar вище 1 Pa. Розглянуто елементарні процеси, що відбуваються при взаємодії плазмового потоку з газовою мішенню. uk_UA
dc.description.abstract Исследованы влияния давления аргона на ионный ток вакуумно-дугового разряда в установке «Булат-6» с Cr-, Cu-, Zr-катодами, а также на скорость осаждения покрытий на поверхности, перпендикулярные и параллельные плазменному потоку. Показано, что существенные уменьшения плотности ионного тока и скорости осаждения покрытий происходят при давлении Ar выше 1 Pa. Рассмотрены элементарные процессы, происходящие при взаимодействии плазменного потока с газовой мишенью. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Вопросы атомной науки и техники
dc.subject Low temperature plasma and plasma technologies uk_UA
dc.title Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes uk_UA
dc.title.alternative Дослідження впливу тиску Ar на плазму вакуумної дуги З Cr-, Cu- та Zr-катодами uk_UA
dc.title.alternative Исследование влияния давления Ar на плазму вакуумной дуги С Cr-, Cu- и Zr-катодами uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис