Effect of electron emission processes on macroparticle charging in plasma systems with electron beam

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення ядерної фізики та енергетики
→
Вопросы атомной науки и техники
→
Problems of Atomic Science and Technology, 2020
→
Problems of Atomic Science and Technology, 2020, № 6
→
Переглянути статтю

dc.contributor.author	Romashchenko, E.V.
dc.contributor.author	Girka, I.О.
dc.contributor.author	Bizyukov, A.A.
dc.contributor.author	Chibisov, A.D.
dc.date.accessioned	2023-11-28T13:42:20Z
dc.date.available	2023-11-28T13:42:20Z
dc.date.issued	2020
dc.identifier.citation	Effect of electron emission processes on macroparticle charging in plasma systems with electron beam / E.V. Romashchenko, I.О. Girka, A.A. Bizyukov, A.D. Chibisov //Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 6. — С. 150-153. — Бібліогр.: 11 назв. — англ.	uk_UA
dc.identifier.issn	1562-6016
dc.identifier.other	PACS: 52.40.Hf
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194664
dc.description.abstract	The effect of different electron emission processes on macropraticle (MP) charging in a plasma at the presence of electron beam is investigated. A complete model of the MP charging in the beam-plasma systems, which includes possible electron emission processes from the MP surface, such as secondary electron emission, the thermionic electron emission, the field electron emission and thermal-field electron emission, is presented.	uk_UA
dc.description.abstract	Досліджено вплив різних процесів електронної емісії на зарядження макрочастинки (МЧ) у плазмі у присутності електронного пучка. Подано повну модель зарядження МЧ у пучково-плазмових системах, до складу якої входять можливі процеси електронної емісії з поверхні МЧ, такі як вторинна електронелектронна емісія, термоелектронна, автоелектронна та термоавтоелектронна емісії.	uk_UA
dc.description.abstract	Исследовано влияние различных процессов электронной эмиссии на зарядку макрочастицы (МЧ) в плазме в присутствии электронного пучка. Представлена полная модель зарядки МЧ в пучково-плазменных системах, которая включает в себя возможные процессы электронной эмиссии с поверхности МЧ, такие как вторичная электрон-электронная эмиссия, термоэлектронная, автоэлектронная, термоавтоэлектронная эмиссии.	uk_UA
dc.language.iso	en	uk_UA
dc.publisher	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Вопросы атомной науки и техники
dc.subject	Low temperature plasma and plasma technologies	uk_UA
dc.title	Effect of electron emission processes on macroparticle charging in plasma systems with electron beam	uk_UA
dc.title.alternative	Вплив процесів електронної емісії на зарядження макрочастинки у плазмових системах з електронним пучком	uk_UA
dc.title.alternative	Влияние процессов електронной емиссии на зарядку макрочастицы в плазменных системах с электронным пучком	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA