Селективность растворения α-латуни при химической и электрохимической ионизации в хлоридных растворах

Abstract

Изучен процесс химического и электрохимического травления α-латуни в хлоридных растворах. Как количественные показатели равномерности травления латуни определены коэффициенты селективности растворения компонентов сплава. Присутствие дополнительного количества ионов хлора в виде NH₄Cl способствует равномерному химическому травлению α-латуни в растворах хлорида железа (III). Показано, что равномерное электрохимическое растворение α-латуни протекает в кислой среде в присутствии ионов хлора и окислителя — Fe³⁺.

Вивчено процес хімічного і електрохімічного травлення α-латуні в хлоридних розчинах. Як кількісні показники рівномірності травлення латуні визначено коефіцієнти селективності розчинення компонентів сплаву. Присутність додаткової кількості іонів хлору у вигляді NH₄Cl сприяє рівномірному хімічному травленню α-латуні у розчинах хлориду заліза (III). Показано, що рівномірне електрохімічне розчинення α-латуні відбувається в кислому середовищі у присутності іонів хлора і окислювача – Fe³⁺.

The chemical and electrochemical etching process of α-brass in chloride solutions was studied. As the quantitative indexes of brass etching evenness the coefficients of alloy components dissolution selectivity were determined. The presence of additional quantity of chlorine ions as NH₄Cl promotes the even brass chemical etching in ferric chloride solutions. The possibility of even electrochemical α-brass in acid medium with presence chlorine ions and Fe³⁺was shown.