Формирование наноструктур оксид никеля—оксид индия методом CVD

Домашня сторінка
→
Хімічні та біологічні науки
→
Відділення хімії
→
Украинский химический журнал
→
Украинский химический журнал, 2010 (том 76)
→
Украинский химический журнал, 2010, № 06
→
Переглянути статтю

Формирование наноструктур оксид никеля—оксид индия методом CVD

Герасимчук, А.И. ; Железнова, Л.И. ; Мазуренко, Е.А. ; Мурафа, Н. ; Роговцов, А.А. ; Шубрт, Я.

Інші назви: Формування наноструктур оксид нікелю—оксид індію методом CVD
Formation nanostructures of nickel oxide—indium oxide by CVD-method

Тема: Неорганическая и физическая химия

УДК: 541.49+544.72

URI: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/186040

Посилання: Формирование наноструктур оксид никеля—оксид индия методом CVD / А.И. Герасимчук, Л.И Железнова, Е.А. Мазуренко, Н. Мурафа, А.А. Роговцов, Я. Шубрт // Украинский химический журнал. — 2010. — Т. 76, № 6. — С. 77-81. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Дата: 2010

Завантажень: 86

Формирование наноструктур оксид никеля—оксид индия методом CVD

Анотація:

Методом химического осаждения из газовой фазы β-дикетонатов индия и никеля получены покрытия их оксидов на кремниевых подложках. Анализ с помощью сканирующей электронной микроскопии и электронной микроскопии высокого разрешения показывает, что в результате осаждения образуются хорошо структурированные нанообъекты.

Методом хімічного осадження з газової фази β-дикетонатів нікелю та індію отримані покриття їх оксидів на кремнієвих підкладках. Аналіз з допомогою скануючої електронної мікроскопії та електронної мікроскопії високої роздільної здатності показує, що в результаті осадження утворюються добре структуровані нанооб’єкти.

The method of chemical vapor deposition β-diketonates of indium and nickel coating obtained their oxides on silicon substrates. Analysis by scanning electron microscopy and electron microscopy, high resolution shows that as a result of the formation of wellstructured nanoobjects.

Показати повний запис статті