Фоточувствительные олигомеры на основе флуоренилсодержащих диолов

Домашня сторінка
→
Хімічні та біологічні науки
→
Відділення хімії
→
Украинский химический журнал
→
Украинский химический журнал, 2006 (том 72)
→
Украинский химический журнал, 2006, № 06
→
Переглянути статтю

Фоточувствительные олигомеры на основе флуоренилсодержащих диолов

Інші назви: Фоточутливі олігомери на основі флуоренілвмісних діолів
Photosensitive oligomers based on fluorenyl-containing diols

Тема: Химия высокомолекулярных соединений

УДК: 541.64 : 678.744.5

URI: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/185212

Посилання: Фоточувствительные олигомеры на основе флуоренилсодержащих диолов / Л.И. Шолудченко, Ю.П. Гетманчук // Украинский химический журнал. — 2006. — Т. 72, № 6. — С. 115-117. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.

Дата: 2006

Завантажень: 86

Фоточувствительные олигомеры на основе флуоренилсодержащих диолов

Анотація:

Описан синтез новых мономеров — флуоренилсодержащих диолов. Неравновесной поликонденсацией с дихлорсиланами получены олигоорганосилоксаны. Изучены информационные свойства фототермопластических регистрирующих сред на основе синтезированных олигомеров.

Описано синтез нових мономерів — флуоренілвмісних діолів. Нерівноважною поліконденсацією з дихлорсиланами одержано олігоорганосилоксани. Досліджено інформаційні властивості фототермопластичних реєструючих середовищ на основі синтезованих олігомерів.

The synthesis of new monomers — fluorenylcontaining diols are described. The oligoorganosiloxanes are received by nonequilibrium polycondensation with dichlorsilanes. The information properties of photoplastic films from synthesized oligomers are investigated.

Показати повний запис статті