При 10 К < Т < 50 К исследован эффект Холла стабилизированных примесью водорода гомогенных
аморфных пленок бериллия толщиной 25-100 нм. Полученое значение коэффициента Холла
Rн = +(1,1 ±0,2)·10⁻¹⁰ м³ /Кл не зависит от температуры и толщины образцов. Это первое стабильно воспроизводимое наблюдение положительноrо эффекта Холла в гомогенном непереходном аморфном металле. Наблюдаемое явление противоречит предсказаниям теории о том, что для непереходных аморфных металлов эффект Холла должен быть отрицательным.
При 10 К < Т < 50 К досліджено ефект Холла стабілізованих домішкою водня гомогенних аморфних плівок берілію товщиною 25-100 нм. Знайдене значення коефіцієнта Холла Rн = +(1,1 ±0,2)·10⁻¹⁰ м³ /Кл не залежить від температури та товщини зразків. Цe перше стабільно відтворюване спостереження позитивноrо ефекту Холла в гомогенному неперехідному аморфному металі. Знайдене явище суперечить передбаченню
теорії в тому, що для неперехідних аморфних металів ефект Холла повинен бути негативним.
The Hall effect of homogeneous amorphous Be films of thickness 25–100 nm stabilized with hydrogen impurity is investigated at 10 K<T<50 K. The value of Hall coefficient estimated as Rh=+(1.1±0.2)×10⁻¹⁰ м³/C is found to be independent of temperature and sample thickness. This is the first consistently repeatable observation of positive Hall effect in a homogeneous nontransition amorphous metal. The observed effect contradicts the predictions of the theory that the Hall effect in nontransition amorphous metals must be negative.
