Разработаны методы нанесения многослойных интерференционных систем (МИС) из диэлектрических и полупроводниковых материалов с высоким показателем преломления и различной температурой плавления на тонкие пленочные подложки из полиэтилена, лавсана и фторопласта. Предложена методика нанесения покрытий из тугоплавких материалов на такие пленки с использованием промежуточной подложки под давлением. Одним из основных преимуществ предлагаемого способа изготовления МИС является возможность использования интерференционного слоя с низким показателем преломления в качестве подложки при осаждении слоев с высоким показателем. При этом полимер одновременно является подложкой, интерференционным слоем с низким показателем преломления и клеем в горячем виде. Разработанный метод позволяет получать МИС различного назначения – отрезающие зеркала и фильтры, спектроделители, полосовые системы.
Coating technology for multilayer interference system (MIS) is presented. Dielectric and semiconductor materials with high refractive index and different melting temperature are deposited on thin film polyethylene, lavsan or fluorocarbon polymer (teflon) substrates. Refractory material coatings on such kind of films are created using intermediate substrate and pressure. This technique of MIS creation allows to use interference layer with low refractive index as substrate for layers with high refractive index. It the technology, polymer is used as substrate, low refractive index interference layer and glue at the same time. Coating techniques are available for fabrication of components such as sharp cutoff filters and mirrors, spectrum dividers, band pass systems.
