Взаимодействие частиц шлама с частицами износа полировального порошка при полировании оптоэлектронных элементов

Abstract

В результате анализа взаимодействия частиц шлама и износа полировального порошка показано, что рассеяние частиц происходит на углы 136,8°–173,2°, а эффективное дифференциальное сечение рассеяния составляет 0,4–1,8 Тб. Траектории движения частиц представляют собой кольца, расположенные у обрабатываемой поверхности в зоне, толщина которой приблизительно равна среднему радиусу зерна полировального порошка.

В результаті аналізу взаємодії частинок шламу та зносу полірувального порошку показано, що розсіювання частинок відбувається на кути 136,8°–173,2°, а ефективний диференційний переріз розсіювання складає 0,4–1,8 Тб. Траєкторії руху частинок являють собою кільця, розташовані поблизу оброблюваної поверхні у зоні, товщина якої приблизно дорівнює середньому радіусу зерна полірувального порошку.

The analysis of interaction between debris particles and polishing powder wear particles has demonstrated that the scattering of particles occurs through angles of 136.8° to 173.2°, and the effective differential scattering cross-section is 0.4 to 1.8 Tb. The trajectories of particles are rings located near the the workpiece surface within a zone whose thickness approximates the mean grain radius of the polishing powder.