Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Особливості технології формування металічних контактів до дискретних ІЧ та ТГц приймачів випромінювання на основі епітаксійних шарів CdHgTe

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Цибрій, З.Ф.
dc.date.accessioned 2019-10-28T16:17:56Z
dc.date.available 2019-10-28T16:17:56Z
dc.date.issued 2019
dc.identifier.citation Особливості технології формування металічних контактів до дискретних ІЧ та ТГц приймачів випромінювання на основі епітаксійних шарів CdHgTe / З.Ф. Цибрій // Доповіді Національної академії наук України. — 2019. — № 9. — С. 34-40. — Бібліогр.: 10 назв. — укр. uk_UA
dc.identifier.issn 1025-6415
dc.identifier.other DOI: doi.org/10.15407/dopovidi2019.09.034
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/160237
dc.description.abstract Наведено технологічні особливості формування двошарових металічних контактів до дискретних приймачів інфрачервоного та терагерцового діапазонів спектра, виготовлених на основі епітаксійних шарів CdHgTe, вирощених на підкладках CdZnTe методом рідкофазної епітаксії. Знайдено оптимальну комбінацію металів (адгезивний шар — струмопровідний шар), які створюють омічний контакт до p- та n-областей CdHgTe в процесі виготовлення дискретних детекторів за планарною технологією. Виміряні вольт-амперні характеристики контактів Mo—Au і Mo—In до епітаксійних шарів р-CdHgTe демонструють лінійний характер як при кімнатній температурі, так і при Т = 80 К. uk_UA
dc.description.abstract The technological features of the formation of two-layer metal contacts to discrete detectors for the infrared and terahertz spectral bands made on the basis of epitaxial layers of CdHgTe grown on CdZnTe substrates by the liquid phase epitaxy method are given. The optimal combination of metals (adhesive layer — conductive layer), which creates an ohmic contact to the p- and n-types of CdHgTe in the process of discrete detectors manufacturing by the planar technology is found. Measured current-voltage characteristics of the Mo—Au and Mo—In contacts to the epitaxial layers of p-CdHgTe show a linear behavior both at room temperature and at T = 80 K. uk_UA
dc.description.abstract Приведены технологические особенности формирования двуслойных металлических контактов к дискретным приемникам инфракрасного и терагерцового диапазонов спектра, изготовленных на основе эпитаксиальных слоев CdHgTe, выращенных на подложках CdZnTe методом жидкофазной эпитаксии. Найдено оптимальную комбинацию металлов (адгезивный слой — токопроводящий слой), которые создают омический контакт к p- и n-областям CdHgTe в процессе изготовления дискретных детекторов по планарной технологии. Измеренные вольт-амперные характеристики контактов Mo—Au и Mo—In к эпитаксиальным слоям р-CdHgTe демонстрируют линейный характер как при комнатной температуре, так и при Т = 80 К. uk_UA
dc.language.iso uk uk_UA
dc.publisher Видавничий дім "Академперіодика" НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Доповіді НАН України
dc.subject Фізика uk_UA
dc.title Особливості технології формування металічних контактів до дискретних ІЧ та ТГц приймачів випромінювання на основі епітаксійних шарів CdHgTe uk_UA
dc.title.alternative Features of the technology of formation of metal contacts to discrete IR and THz radiation detectors based on CdHgTe epitaxial layers uk_UA
dc.title.alternative Особенности технологии формирования металлических контактов к дискретным ИК и ТГц приемникам излучения на основе эпитаксиальных слоев CdHgTe uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA
dc.identifier.udc 621.384.3


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис