Показати простий запис статті

dc.contributor.author Veklich, A.N.
dc.contributor.author Kleshich, M.M.
dc.contributor.author Fesenko, S.O.
dc.contributor.author Boretskij, V.F.
dc.contributor.author Kryachko, L.A.
dc.date.accessioned 2019-02-18T20:31:33Z
dc.date.available 2019-02-18T20:31:33Z
dc.date.issued 2018
dc.identifier.citation Plasma of arc discharge between melting Cu- and Ni-electrodes / A.N. Veklich, M.M. Kleshich, S.O. Fesenko, V.F. Boretskij, L.A. Kryachko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 6. — С. 233-236. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.other PACS: 52.70.-m, 52.80.Mg
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/148859
dc.description.abstract The intensity of erosion processes of asymmetric single-component Cu and Ni electrodes of the free burning electric arc at current of 30 A is studied by measurements of a content metals vapour in plasma column. Optical emission spectroscopy was used to determine the radial distributions of plasma temperature and electron density in the middle section of a discharge gap. These experimentally obtained data were used in the calculation of equilibrium plasma composition. So, the evaporation intensity of each electrode material can be estimated in such indirect way. uk_UA
dc.description.abstract Досліджували інтенсивність ерозійних процесів вільноіснуючої електричної дуги струмом 30 А між асиметричними однокомпонентними Cu- та Ni-електродами. У середньому поперечному перерізі розрядного проміжку за допомогою оптичної емісійної спектроскопії вимірювали радіальні розподіли температури та електронної концентрації, які використовували для розрахунку рівноважного складу плазми. Отже, у такий непрямий спосіб може бути оцінена інтенсивність випаровування електродного матеріалу. uk_UA
dc.description.abstract Исследовали интенсивность эрозионных процессов свободногорящей электрической дуги силой тока 30 А между асимметричными однокомпонентными Cu- и Ni-электродами. В среднем сечении разрядного промежутка с помощью оптической эмиссионной спектроскопии измеряли радиальные распределения температуры и электронной концентрации, которые были использованы для расчета равновесного состава плазмы. Таким косвенным образом может быть оценена интенсивность испарения электродного материала. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Вопросы атомной науки и техники
dc.subject Низкотемпературная плазма и плазменные технологии uk_UA
dc.title Plasma of arc discharge between melting Cu- and Ni-electrodes uk_UA
dc.title.alternative Плазма дугового розряду між плавкими Cu- та Ni-електродами uk_UA
dc.title.alternative Плазма дугового разряда между плавящимися Cu- и Ni-электродами uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис