Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Veklich, A.N. |
|
dc.contributor.author |
Kleshich, M.M. |
|
dc.contributor.author |
Fesenko, S.O. |
|
dc.contributor.author |
Boretskij, V.F. |
|
dc.contributor.author |
Kryachko, L.A. |
|
dc.date.accessioned |
2019-02-18T20:31:33Z |
|
dc.date.available |
2019-02-18T20:31:33Z |
|
dc.date.issued |
2018 |
|
dc.identifier.citation |
Plasma of arc discharge between melting Cu- and Ni-electrodes / A.N. Veklich, M.M. Kleshich, S.O. Fesenko, V.F. Boretskij, L.A. Kryachko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 6. — С. 233-236. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
1562-6016 |
|
dc.identifier.other |
PACS: 52.70.-m, 52.80.Mg |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/148859 |
|
dc.description.abstract |
The intensity of erosion processes of asymmetric single-component Cu and Ni electrodes of the free burning
electric arc at current of 30 A is studied by measurements of a content metals vapour in plasma column. Optical
emission spectroscopy was used to determine the radial distributions of plasma temperature and electron density in the
middle section of a discharge gap. These experimentally obtained data were used in the calculation of equilibrium
plasma composition. So, the evaporation intensity of each electrode material can be estimated in such indirect way. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Досліджували інтенсивність ерозійних процесів вільноіснуючої електричної дуги струмом 30 А між
асиметричними однокомпонентними Cu- та Ni-електродами. У середньому поперечному перерізі розрядного
проміжку за допомогою оптичної емісійної спектроскопії вимірювали радіальні розподіли температури та
електронної концентрації, які використовували для розрахунку рівноважного складу плазми. Отже, у такий
непрямий спосіб може бути оцінена інтенсивність випаровування електродного матеріалу. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Исследовали интенсивность эрозионных процессов свободногорящей электрической дуги силой тока
30 А между асимметричными однокомпонентными Cu- и Ni-электродами. В среднем сечении разрядного
промежутка с помощью оптической эмиссионной спектроскопии измеряли радиальные распределения
температуры и электронной концентрации, которые были использованы для расчета равновесного состава
плазмы. Таким косвенным образом может быть оценена интенсивность испарения электродного материала. |
uk_UA |
dc.language.iso |
en |
uk_UA |
dc.publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Вопросы атомной науки и техники |
|
dc.subject |
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
uk_UA |
dc.title |
Plasma of arc discharge between melting Cu- and Ni-electrodes |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Плазма дугового розряду між плавкими Cu- та Ni-електродами |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Плазма дугового разряда между плавящимися Cu- и Ni-электродами |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті