Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат

dc.contributor.author	Сисюк, В.Г.
dc.contributor.author	Грищенко, В.К.
dc.contributor.author	Гранчак, В.М.
dc.contributor.author	Бубнова, А.С.
dc.contributor.author	Давискиба, П.М.
dc.date.accessioned	2010-12-29T11:18:23Z
dc.date.available	2010-12-29T11:18:23Z
dc.date.issued	2008
dc.identifier.citation	Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат / В.Г. Сисюк, В.К. Грищенко, В.М. Гранчак, А.С. Бубнова, П.М. Давискиба // Наука та інновації. — 2008. — Т. 4, № 6. — С. 5-11. — Бібліогр.: 13 назв. — укр.	uk_UA
dc.identifier.issn	1815-2066
dc.identifier.other	DOI: doi.org/10.15407/scin4.06.005
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/14830
dc.description.abstract	Розроблені фотополімеризаційноздатні композиції на основі лугорозчинного полімеру та олігоефіракрилатів і епоксиакрилатів для створення захисних покриттів (масок) плат друкованого монтажу. Досліджено вплив олігомерних складових на фізико-механічні властивості полімерного матеріалу. Проведена оптимізація складу фоточутливої композиції для виготовлення трафаретної фарби з метою формування захисного покриття (маски) високої якості та випробування фарби та покриття на виробництві.
dc.description.abstract	Разработаны фотополимеризационноспособные композиции на основе щелочерастворимого полимера с добавлением олигоэфиракрилатов и эпоксиакрилатов для создания защитных покрытий (масок) плат печатного монтажа. Исследовано влияние олигомерных составляющих на физико-химические и физико-механические свойства полимерного материала. Проведена оптимизация состава фоточувствительной композиции для изготовления трафаретной краски с целью формирования изображения защитного покрытия (маски) высокого качества и испытания краски и покрытия на производстве/
dc.description.abstract	Photopolymerable compositions based on alkali-soluble polymers with oligoetheracrylate and epoxyacrylate are developed for creation of protective coatings (masks) of board circuit wiring. The influence of oligomer components on physicochemical and physicomechanical properties of a polymeric material is investigated. Optimization of photosensitive composition structure, which was used for screen printing manufacturing, is lead with the purpose of the high quality protective coating (mask) image formation and its testing at manufacture. Key words: board, protective coating, photopolymer composition, modification, reactive oligomer, imaging, optimization.
dc.language.iso	uk	uk_UA
dc.publisher	Видавничий дім "Академперіодика" НАН України	uk_UA
dc.subject	Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України	uk_UA
dc.title	Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат	uk_UA
dc.title.alternative	Фотополимерные композиционные материалы для защитных покрытий печатных плат
dc.title.alternative	Photopolymeric composite materials for coatings board
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA