Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Talanin, V.I. |
|
dc.contributor.author |
Talanin, I.E. |
|
dc.date.accessioned |
2018-06-20T18:59:46Z |
|
dc.date.available |
2018-06-20T18:59:46Z |
|
dc.date.issued |
2006 |
|
dc.identifier.citation |
Recombination parameters of point defects in dislocation-free silicon single crystals / V.I. Talanin, I.E. Talanin // Functional Materials. — 2006. — Т. 13, № 1. — С. 69-73. — Бібліогр.: 25 назв. — англ. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
1027-5495 |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/139612 |
|
dc.description.abstract |
The recombination parameters of the point defects dynamics (recombination barrier, recombination time, recombination factor) at high and low temperatures are discussed proceeding from the heterogeneous mechanism of grown-in microdefects formation and transformation. The cooling-induced decomposition of the oversaturated solid solution of point defects in silicon follows two mechanisms: vacancy-type and interstitial-type ones. Therefore, vacancies and intrinsic silicon interstitials find drains in the form of background impurity atoms like oxygen and carbon. The formation of intrinsic point defect-impurity pairs is the dominant process at temperatures near the silicon melting point. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Рассмотрены рекомбинационные параметры модели динамики точечных дефектов (рекомбинационный барьер, рекомбинационное время, рекомбинационный фактор) для высоких и низких температур, исходя из гетерогенного механизма образования и трансформации ростовых микродефектов. Вызванный охлаждением распад пересыщенного твердого раствора точечных дефектов в кремнии протекает по двум механизмам: вакансионному и межузельному. Поэтому вакансии и собственные межузельные атомы кремния находят стоки в виде атомов фоновых примесей, таких как кислород и углерод. Образование пар "собственный точечный дефект - примесь" является доминирующим процессом при температурах, близких к точке плавления кремния. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Розглянуто рекомбiнацiйнi параметри моделi динамiки точкових дефектiв (рекомбiнацiйний бар'єр, рекомбiнацiйний час, рекомбiнацiйний фактор) для високих та низьких температур, виходячи з гетерогенного механiзму утворення i трансформацiї ростових мiкродефектiв. 3а рахунок охолодження розпад пересиченого твердого розчину точкових дефектiв у кремнiї вiдбувається за двома маханiзмами: вакансiйним та мiжвузловинним. Тому вакансiї i власнi мiжвузловиннi атоми кремнiю знаходять стоки у виглядi атомiв фонових домiшок, таких як кисень та вуглець. Утворення пар "власний точковий дефект - домiшка" є домiнуючим процесом при температурах, близьких до точки плавлення кремнiю. |
uk_UA |
dc.language.iso |
en |
uk_UA |
dc.publisher |
НТК «Інститут монокристалів» НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Functional Materials |
|
dc.title |
Recombination parameters of point defects in dislocation-free silicon single crystals |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Рекомбінаційні параметри точкових дефектів у бездислокаційних монокристалах кремнію |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті