Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України
періодичних видань НАН України
Electrodeposition of copper indium diselenide films using pulse plating technique
Репозиторій DSpace/Manakin
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.
Electrodeposition of copper indium diselenide films using pulse plating technique
Інші назви:
Електроосадження плівок диселеніду міді та індію в імпульсному режимі
Посилання:
Electrodeposition of copper indium diselenide films using pulse plating technique / N.P. Klochko // Functional Materials. — 2007. — Т. 14, № 3. — С. 343-346. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.
Дата:
2007
Переглядів:
541
Завантажень:
262
Анотація:
Parameters of rectangular potential pulse electolysis wich have provided the obtaining of nearly stoichiometric copper indium diselenide layers have been selected using the examination of those films by energy-dispersive X-ray spectroscopy, anodic stripping, scanning electron microscopy and the film resistivity measurements.
