Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering

dc.contributor.author	Zayats, M.S.
dc.contributor.author	Boiko, V.G.
dc.contributor.author	Gentsar, P.O.
dc.contributor.author	Vuichyk, M.V.
dc.contributor.author	Lytvyn, O.S.
dc.contributor.author	Stronski, A.V.
dc.date.accessioned	2018-06-14T16:28:56Z
dc.date.available	2018-06-14T16:28:56Z
dc.date.issued	2010
dc.identifier.citation	Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering / M.S. Zayats, V.G. Boiko, P.O. Gentsar, M.V. Vuichyk, O.S. Lytvyn, A.V. Stronski // Functional Materials. — 2010. — Т. 17, № 2. — С. 209-212. — Бібліогр.: 11 назв. — англ.	uk_UA
dc.identifier.issn	1027-5495
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/135183
dc.language.iso	en	uk_UA
dc.publisher	НТК «Інститут монокристалів» НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Functional Materials
dc.subject	Characterization and properties	uk_UA
dc.title	Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering	uk_UA
dc.title.alternative	Оптичні властивості плівок AlN/n-Si(111) отриманих методом високочастотного реактивного магнетронного розпилення	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA