Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Optical properties of silicon carbide obtained by direct ion deposition

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Lopin, A.V.
dc.contributor.author Semenov, A.V.
dc.contributor.author Puzikov, V.M.
dc.contributor.author Trushkovsky, A.G.
dc.date.accessioned 2018-06-14T14:50:25Z
dc.date.available 2018-06-14T14:50:25Z
dc.date.issued 2006
dc.identifier.citation Optical properties of silicon carbide obtained by direct ion deposition / A.V. Lopin, A.V. Semenov, V.M. Puzikov, A.G. Trushkovsky // Functional Materials. — 2006. — Т. 13, № 4. — С. 631-636. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1027-5495
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/135067
dc.description.abstract Optical transmission, absorption and reflection spectra of silicon carbide thin films deposited on sapphire substrate from the carbon and silicon ionic flows have been investigated. The films have been obtained at various deposition paramenters, i.e., under variation of ion energy and substrate temperature. The behavior of optical characteristics of silicon-carbide films depending on influence of changes in technological parameters. It has been shown that direct ion deposition method provides a control of film optical parameters within a wide range. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher НТК «Інститут монокристалів» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Functional Materials
dc.title Optical properties of silicon carbide obtained by direct ion deposition uk_UA
dc.title.alternative Оптичні властивості плівок карбіду кремнію, одержаних методом прямого іонного осадження uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис