Одержання та фізичні властивості моно- та багатошарових металевих наноструктур

Abstract

Аналіза літературних даних показує, що вивчення поверхнево нанесених металевих наноструктур є актуальною проблемою фізики поверхні. Кінцева структура тонких плівок залежить від значної кількости параметрів і чинників, таких як відмінності постійних ґратниць і коефіцієнтів термічного розширення речовини, що наноситься, та підложжя, що, в свою чергу, приводить до виникнення внутрішніх напружень і подальшої деґрадації плівки. В процесі формування моно- та багатошарових структур вагоме місце займають такі параметри, як температура та структура підложжя, швидкість осадження, фраґментація нанокластерів, характеристика змочування, час нанесення, віддаль від кювети до зразку, тиск у камері та температура розтопу в кюветі. Цілеспрямоване керування цими параметрами уможливлює прогнозувати та створювати поверхневі структури з необхідним набором фізико-хемічних властивостей.

Анализ литературных данных показывает, что изучение поверхностно нанесённых металлических наноструктур является актуальной проблемой физики поверхности. Конечная структура тонких плёнок зависит от большого количества параметров и факторов, таких как различия постоянных решёток и коэффициентов термического расширения вещества, которое наноситься, и подкладки, что, в свою очередь, приводит к возникновению внутренних напряжений и дальнейшей деградации плёнки. В процессе формирования моно- и многослойных структур весомое место занимают такие параметры как температура и структура подложки, скорость осаждения, фрагментация нанокластеров, характеристика смачивания, время нанесения, расстояние от кюветы до образца, давление в камере и температура расплава в кювете. Целенаправленное управление этими параметрами позволяет прогнозировать и создавать поверхностные структуры с необходимым набором физико-химических свойств.

Analysis of the literature data shows that the study of surface-deposited metallic nanostructures is an actual problem of surface physics. The final structure of thin films depends on a large number of parameters and factors such as the differences between the unit-cells’ sizes as well as between the coefficients of a thermal expansion of a deposited substance and substrate that leads to internal stresses and a subsequent degradation of film. Many parameters such as temperature and a substrate structure, a deposition rate, fragmentation of nanoclusters, wetting parameters, time of application, dishsample distance, pressure in a chamber, and temperature of melt in a dish can play an important role during the mono- and multilayer structures’ formation. The goal-directed control of these parameters allows prediction and fabrication of surface structures with a required set of the physical and chemical properties.