Кінетика розпаду при відпалі у вакуумі титанових та цирконієвих наноплівок, нанесених на карбід кремнію та нітрид алюмінію

Abstract

Наведено результати досліджень кінетики розпаду титанових та цирконієвих наноплівок завтовшки 100 нм, які нанесені на поверхні зразків, виготовлених з монокристалів карбіду кремнію та нітриду алюмінію, і відпалені у вакуумі при температурах 1200—1600 °С впродовж різного часу витримки при кожній температурі в інтервалі 2—20 хв.

Приведены результаты исследований кинетики распада титановых и циркониевых нанопленок толщиной 100 нм, которые нанесены на поверхности образцов, изготовленных из монокристаллов карбида кремния и нитрида алюминия, и отожжены в вакууме при температурах 1200—1600 °С в течение различного времени выдержки при каждой температуре в интервале 2—20 хв.

The results of studies kinetics of disintegration of titanium and zirconium nanofilms 100 nm thickness deposited onto substrates surfaces which were made from aluminium nitride and monocrystal of silicon carbide and were annealed in a vacuum at temperatures of 1200—1600 °С during different exposure times at each temperature in interval of 2—20 min are given.