Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Специфика излучательной аннигиляции автолокализованных экситонов в кристалле KI–Tl при низкотемпературной деформации

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Шункеев, К.Ш.
dc.contributor.author Жантурина, Н.Н.
dc.contributor.author Аймаганбетова, З.К.
dc.contributor.author Бармина, A.A.
dc.contributor.author Мясникова, Л.Н.
dc.contributor.author Сагимбаева, Ш.Ж.
dc.contributor.author Сергеев, Д.М.
dc.date.accessioned 2018-01-16T18:05:24Z
dc.date.available 2018-01-16T18:05:24Z
dc.date.issued 2016
dc.identifier.citation Специфика излучательной аннигиляции автолокализованных экситонов в кристалле KI–Tl при низкотемпературной деформации / К.Ш. Шункеев, Н.Н. Жантурина, З.К. Аймаганбетова, А.А. Бармина, Л.Н. Мясникова, Ш.Ж. Сагимбаева, Д.М. Сергеев // Физика низких температур. — 2016. — Т. 42, № 7. — С. 738-742. — Бібліогр.: 34 назв. — рос. uk_UA
dc.identifier.issn 0132-6414
dc.identifier.other PACS: 62.40.+i, PACS: 71.35.–y, 78.55.Fv
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/129197
dc.description.abstract В кристалле KI–Tl по регистрации спектров рентгенолюминесценции установлено воздействие низкотемпературной одноосной деформации на длину свободного пробега экситона до автолокализации. Анализ соотношения интенсивностей свечения таллиевого (2,85 эВ) и автолокализованного экситонов (π-компонент; 3,3 эВ) в зависимости от степени низкотемпературной деформации показывает, что в кристалле KI–Tl (3·10–3 моль%) длина свободного пробега экситона до автолокализации соизмерима с межталлиевым расстоянием (20–27)a при деформации ε = 2%, а c ростом степени сжатия ε ≥ 2–5% уменьшается до (27–5,35)a. Результаты моделирования на основе континуального приближения показывают, что с ростом температуры и степени низкотемпературной деформации происходит уменьшение высоты потенциального барьера для автолокализации экситона, что согласуется с сокращением длины пробега свободного экситона в кристалле KI–Tl. uk_UA
dc.description.abstract У кристалі KI–Tl по реєстрації спектрів рентгенолюмінесценції встановлено дію низькотемпературної одновісної деформації на довжину вільного пробігу екситона до автолокалізації. Аналіз співвідношення інтенсивностей світіння талієвого (2,85 еВ) та автолокалізованого екситонів (π-компонент; 3,3 еВ) залежно від міри изькотемпературної деформації показує, що в кристалі KI–Tl (3·10–3 моль%) довжина вільного пробігу екситона до автолокалізації є сумірною з міжталієвою відстанню (20–27)a при деформації ε = 2%, а із зростанням міри стискування ε ≥ 2–5% зменшується до (27–5,35)a. Результати моделювання на основі континуального наближення показують, що із зростанням температури та міри низькотемпературної деформації відбувається зменшення висоти потенційного бар'єру для автолокалізації екситона, що узгоджується із скороченням довжини пробігу вільного екситона у кристалі KI–Tl. uk_UA
dc.description.abstract The effect of low-temperature uniaxial deformation on the self-trapping-limited mean free path of excitons in a KI–Tl crystal was revealed from x-ray luminescence spectra. The analysis of the dependence of the intensity ratio of the Tl-center emission (2.85 eV) and the luminescence of self-trapped excitons (π-component; 3.3 eV) on the extent of low-temperature deformation showed that in the KI–Tl crystal (3 × 10 −³ mol. %) the self-trapping-limited mean free path of excitons is comparable with the distance between Tl atoms (20–27) a under a deformation ε = 2%. As the compression increases to ε ≥ 2%–5%, the mean free path drops to (27-5.35) a. The results of modeling based on the continuum approximation showed that with increasing temperature and the degree of low-temperature deformation the height of the potential barrier for the exciton self-trapping drops, which is consistent with the reduction of the mean free path of excitons in the KI–Tl crystal. uk_UA
dc.description.sponsorship Благодарим сотрудников Института физики Тартуского университета за предоставленные образцы кристаллов KI–Tl. Работа выполнена при поддержке грантов МОН РК №4903/ГФ4, 4904/ГФ4. uk_UA
dc.language.iso ru uk_UA
dc.publisher Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Физика низких температур
dc.subject Low-Temperature Radiation Effects in Wide Gap Materials uk_UA
dc.title Специфика излучательной аннигиляции автолокализованных экситонов в кристалле KI–Tl при низкотемпературной деформации uk_UA
dc.title.alternative The specifics of radiative annihilation of self-trapped excitons in a KI–Tl crystal under low-temperature deformation uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис