Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Layer structure formation in Hg₁₋xCdxTe films after high-frequency sonication

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Savkina, R.K.
dc.contributor.author Sizov, F.F.
dc.contributor.author Smirnov, A.B.
dc.contributor.author Tetyorkin, V.V.
dc.date.accessioned 2017-06-15T03:27:30Z
dc.date.available 2017-06-15T03:27:30Z
dc.date.issued 2006
dc.identifier.citation Layer structure formation in Hg₁₋xCdxTe films after high-frequency sonication / R.K. Savkina, F.F. Sizov, A.B. Smirnov, V.V. Tetyorkin // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2006. — Т. 9, № 4. — С. 31-35. — Бібліогр.: 20 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1560-8034
dc.identifier.other PACS 43.35.+d, 73.61.Ga, 73.50.Jt
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/121630
dc.description.abstract Electrophysical parameters of Hg₁₋xCdxTe thin films grown by liquid-phase epitaxy and molecular-beam epitaxy were investigated before and after the high-frequency sonication ( fUS = 7.5 MHz, WUS ~ 10⁴ W/m²). It was determined that parameters of MBE-grown Hg₁₋xCdxTe thin films are stable to ultrasound effect, while for thin films grown by LPE the sonically stimulated change of the conductivity type was observed. The best agreement between experiment and calculation was obtained in the frame of the assumption about forming of the thin layer with another conductivity type. The possible nature of the observed effect was analyzed. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
dc.title Layer structure formation in Hg₁₋xCdxTe films after high-frequency sonication uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис