Структурно-фазовое состояние поверхности при высокодозной ионной имплантации титана в монокристаллы Cu

Abstract

Приведены результаты экспериментальных исследований профилей раздела концентрации внедренных ионов и попутных примесей по глубине поверхности монокристаллов меди в результате высокодозной имплантации ионами титана. Установлено, что в результате воздействия ионами титана вблизи поверхности формируются тонкие аморфные углеродные и окисленные пленки, а также карбид титана.

Наведені результати експериментальних досліджень профілів розділу концентрації впроваджених іонів і попутних домішок за глибиною поверхні монокристалів міді в результаті високодозної імплантації іонами титану. Встановлено, що в результаті впливу іонами титану поблизу поверхні формуються тонкі аморфні вуглецеві і окислені плівки, а також карбід титану.

The results of experimental research of the concentration interface profiles of the implanted ions and the co product impurities over the depth of the surface of copper single crystals as a result of high-dose implantation of titanium ions are shown. It is found that thin amorphous carbon and oxidized films and titanium carbide are formed close to the surface as a result of titanium ions impact.