Реконструкция поверхности поликристаллических пленок золота под влиянием температурного отжига

Abstract

Рассмотрены пленки золота, которые наносили методом термического испарения в вакууме на полированные кварцевые подложки и подвергали термическому отжигу на воздухе в течение 30 мин в интервале температур 80–300 °С. Кристаллическую структуру полученных образцов исследовали методом дифракции рентгеновского характеристического излучения меди.

Gold films of the thickness 40 5 nm were deposited using the method of thermal evaporation in vacuum onto polished silica substrates and undergone to thermal annealing in air for 30 min within the temperature range 80-300 °C. The crystalline structure of these samples was studied using X-ray diffraction of the characteristic Cu K -line.