Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™

dc.contributor.author	Чапон, П.
dc.contributor.author	Костенко, О.К.
dc.date.accessioned	2017-04-20T13:15:54Z
dc.date.available	2017-04-20T13:15:54Z
dc.date.issued	2012
dc.identifier.citation	Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ / П. Чапон, О.К. Костенко // Наука та інновації. — 2012. — Т. 8, № 2. — С. 34-38. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.	uk_UA
dc.identifier.issn	1815-2066
dc.identifier.other	DOI: doi.org/10.15407/scin8.02.034
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/116087
dc.description.abstract	Описаны методы оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего ВЧ-разряда. Приведены характеристики плазмы тлеющего разряда, позволяющие выполнять эрозию поверхности с высокой скоростью.	uk_UA
dc.description.abstract	Описані методи оптичної емісійної спектрометрії тліючого ВЧ-розряду. Наведені характеристики плазми тліючого розряду, що дозволяють виконувати ерозію поверхні з високою швидкістю.	uk_UA
dc.description.abstract	Methods of optical emission spectrometry of grow HFdis charge are described. The unique characteristics of GD plasma, which allow performing very fast surface erosion, are presented.	uk_UA
dc.language.iso	ru	uk_UA
dc.publisher	Видавничий дім "Академперіодика" НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Наука та інновації
dc.subject	Світ інновацій	uk_UA
dc.title	Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™	uk_UA
dc.title.alternative	Характеризація елементного розподілу по глибині плівок та покриттів методами RF GD-OES та TOFMS™	uk_UA
dc.title.alternative	Characterisation of Element Distribution in Films and Coatings with RF GD-OES and TOFMS™ Methods	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA