Структурные и рентгено-оптические характеристики многослойных рентгеновских зеркал W/Si

Abstract

Методами рентгеновской дифракции в жёстком (λ= 0,154 нм) и мягком (0,8 <λ< 2,4 нм) диапазонах исследована структура и оптические свойства серии многослойных рентгеновских зеркал (МРЗ) W/Si с систематически изменяющимся периодом в диапазоне 1—6 нм, изготовленных методом магнетронного распыления. Наличие перемешанных прослоек на межфазных границах c составом WSi₂ оказывает основное влияние на снижение отражательной способности МРЗ в мягкой рентгеновской области. Показана возможность изготовления многослойного зеркала с разрешающей способностью на длине волны 2,36 нм, по меньшей мере, в 5 раз выше, чем у стандартных зеркал W/Si.

Методами рентґенівської дифракції в жорсткому (λ= 0,154 нм) та м’якому (0,8 <λ< 2,4 нм) діапазонах досліджено структуру та оптичні властивості серії багатошарових рентґенівських дзеркал (БРД) W/Si, виготовлених методою магнетронного розпорошення, у яких систематично змінюється період у діапазоні 1—6нм. Присутність на міжфазних межах змішаних прошарків силіциду WSi₂ спричиняє найбільший вплив на зменшення коефіцієнту відбивання БРД в м’якій рентґенівській області (λ=2,36нм). Показано можливість виготовлення багатошарового дзеркала з оптичною роздільчою здатністю у м’якому рентґенівському діапазоні щонайменше у 5 разів вище, аніж у стандартних дзеркал W/Si.

By methods of X-ray diffraction in hard (λ= 0.154 nm) and soft (0.8 <λ< 2.4 nm) ranges, the structure and optical properties for series of W/Si multilayer X-ray mirrors (MXMs) with periods of 1—6 nm are studied. MXMs are deposited with DC magnetron sputtering. Mixed interlayers at MXM interfaces with composition close to WSi₂ make the main contribution to a reduction of MXM reflectivity at soft X-rays (λ= 2.36 nm). A possibility to fabricate MXMs with resolution of at least 5 times better than standard W/Si MXM in the soft X-ray range is demonstrated.