Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Эмиссионные характеристики легированных азотом наноструктурных алмазных покрытий, синтезированных в плазме тлеющего разряда

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Дудник, С.Ф.
dc.contributor.author Кошевой, К.И.
dc.contributor.author Нищенко, М.М.
dc.contributor.author Смольник, С.В.
dc.contributor.author Стрельницкий, В.Е.
dc.contributor.author Шевченко, Н.А.
dc.date.accessioned 2017-01-21T17:24:57Z
dc.date.available 2017-01-21T17:24:57Z
dc.date.issued 2015
dc.identifier.citation Эмиссионные характеристики легированных азотом наноструктурных алмазных покрытий, синтезированных в плазме тлеющего разряда / С.Ф. Дудник, К. И. Кошевой, М.М. Нищенко, С.В. Смольник, В.Е. Стрельницкий, Н.А. Шевченко // Металлофизика и новейшие технологии. — 2015. — Т. 37, № 11. — С. 1487-1501. — Бібліогр.: 17 назв. — рос. uk_UA
dc.identifier.issn 1024-1809
dc.identifier.other PACS: 65.40.gh, 73.20.At,73.30.+y, 73.63.Bd, 79.40.+z, 81.05.uj, 81.65.Lp
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/112438
dc.description.abstract Исследованы эмиссионные характеристики легированных азотом наноструктурных алмазных покрытий с удельным сопротивлением в диапазоне 2,3∙10⁴—4∙10¹ Ом∙см, полученных в плазме тлеющего разряда в различных условиях. Показано, что эмиссионный ток с поверхности образцов появляется после удаления примесей при отжиге в интервале 603—818 К, создающих поверхностные акцепторные электронные состояния p-типа, влияющие на работу выхода, определяемую методом контактной разницы потенциалов по смещению вольт-амперной характеристики. Для наноструктурного алмазного покрытия с удельным сопротивлением 2,4∙10² Ом∙см получено наиболее низкое значение работы выхода 1,28 эВ и наибольшая плотность тока 6,9 мА/см² при 963 К. uk_UA
dc.description.abstract Досліджено емісійні характеристики леґованих Нітроґеном наноструктурних діямантових покриттів із питомим опором у діяпазоні 2,3∙10⁴—4∙10¹ Ом∙см, одержаних у плазмі жеврійного розряду за різних умов. Показано, що емісійний струм із поверхні зразків з’являється після видалення домішок при відпалі в інтервалі 603—818 К, що створюють поверхневі акцепторні електронні стани p-типу, які впливають на роботу виходу, що визначається методою контактної ріжниці потенціялів по зміщенню вольт-амперної характеристики. Для наноструктурного діямантового покриття з питомим опором у 2,4∙10² Ом∙см одержано найбільш низьке значення роботи виходу у 1,28 еВ і найбільшу густину струму у 6,9 мА/см² при 963 К. uk_UA
dc.description.abstract The emission characteristics of the nitrogen-doped nanostructure diamond coatings with a resistivity in the range of 2.3∙10⁴—4∙10¹ Ohm∙cm obtained in glow discharge plasma under different conditions are investigated. As shown, the emission current from the sample surface appears after the removing of impurities during annealing in the range 603—818 K, which create surface acceptor electron states of p-type. That states affect the work function determined by the contact potential difference of shifting current—voltage characteristics. For the nanostructure diamond coating with a resistivity of 2.4∙10² Ohm∙cm, the lowest value of the work function of 1.28 eV and the highest current density of 6.9 mA/см² at 963 K are determined. uk_UA
dc.language.iso ru uk_UA
dc.publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Металлофизика и новейшие технологии
dc.subject Электронные структура и свойства uk_UA
dc.title Эмиссионные характеристики легированных азотом наноструктурных алмазных покрытий, синтезированных в плазме тлеющего разряда uk_UA
dc.title.alternative Емісійні характеристики легованих азотом наноструктурних алмазних покриттів, синтезованих у плазмі тліючого розряду uk_UA
dc.title.alternative Emission Characteristics of Nitrogen-Doped Nanostructure Diamond Coating Synthesized in Glow Discharge Plasma uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис