Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Shariy, S.V. |
|
dc.contributor.author |
Yuferov, V.B. |
|
dc.contributor.author |
Tkachova, T.I. |
|
dc.contributor.author |
Svichkar, A.S. |
|
dc.contributor.author |
Shvets, M.O. |
|
dc.contributor.author |
Tkachov, V.I. |
|
dc.date.accessioned |
2017-01-17T16:03:51Z |
|
dc.date.available |
2017-01-17T16:03:51Z |
|
dc.date.issued |
2015 |
|
dc.identifier.citation |
The influence of HF discharge on plasma parameters of gas source with incandescent cathode / S.V. Shariy, V.B. Yuferov, T.I. Tkachova, A.S. Svichkar, M.O. Shvets, V.I. Tkachov // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 3. — С. 136-138. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
1562-6016 |
|
dc.identifier.other |
PACS: 52.50.Dg |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/112100 |
|
dc.description.abstract |
An experimental study of the influence of HF power and configuration of the magnetic field on the plasma parameters of the gas source with incandescent cathode was carried out. It is shown that the application HF power into discharge results in reduction of electron temperature. For discharge in decreasing magnetic field the radial distribution of the plasma density in the axial region is more uniform compared with increasing magnetic field. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Проведено експериментальне дослідження впливу ВЧ-потужності та конфігурації магнітного поля на параметри плазми газового джерела з розжарюваним катодом. Показано, що введення в розряд ВЧ-потужності призводить до зниження електронної температури. Для розряду в спадаючому магнітному полі радіальне розподілення щільності плазми в привісевій області більш однорідним в порівнянні із зростаючим магнітним полем. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Проведено экспериментальное исследование влияния ВЧ-мощности и конфигурации магнитного поля на параметры плазмы газового источника с накаливаемым катодом. Показано, что введение в разряд ВЧ-мощности приводит к снижению электронной температуры. Для разряда в убывающем магнитном поле радиальное распределение плотности плазмы в приосевой области более однородное по сравнению с нарастающим магнитным полем. |
uk_UA |
dc.language.iso |
en |
uk_UA |
dc.publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Вопросы атомной науки и техники |
|
dc.subject |
Теория и техника ускорения частиц |
uk_UA |
dc.title |
The influence of HF discharge on plasma parameters of gas source with incandescent cathode |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Вплив ВЧ-розряду на параметри плазми газового джерела з розжарювальним катодом |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Влияние ВЧ-разряда на параметры плазмы газового источника с накаливаемым катодом |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті