Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Аксьонов, І.І. |
|
dc.contributor.author |
Білоус, В.А. |
|
dc.contributor.author |
Голтвяниця, С.К. |
|
dc.contributor.author |
Голтвяниця, В.С. |
|
dc.contributor.author |
Задніпровський, Ю.О. |
|
dc.contributor.author |
Купрiн, О.С. |
|
dc.contributor.author |
Ломіно, М.С. |
|
dc.contributor.author |
Овчаренко, В.Д. |
|
dc.date.accessioned |
2017-01-08T10:54:14Z |
|
dc.date.available |
2017-01-08T10:54:14Z |
|
dc.date.issued |
2009 |
|
dc.identifier.citation |
Перенесення катодного матеріалу в процесі вакуумно-дугового формування покриттів / І.І. Аксьонов, В.А. Білоус, С.К. Голтвяниця, В.С. Голтвяниця, Ю.О. Задніпровський, O.С. Купрiн, М.С. Ломіно, В.Д. Овчаренко // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 2. — С. 181-184. — Бібліогр.: 5 назв. — укр. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
1562-6016 |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111123 |
|
dc.description.abstract |
На прикладі композиційних Ti-Si та Ti-Al катодних матеріалів експериментально досліджені особливості переносу компонентів цих матеріалів до покриттів, осаджуваних вакуумно-дуговим методом. Виявлена можливість регулювання концентрації компонентів в покритті в широких межах зміною параметрів процесу осадження: негативної напруги зміщення на підкладці, температури підкладки, напруженості фокусуючого магнітного поля. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
На примере композиционных Ti-Si и Ti-Al катодных материалов экспериментально исследованы особенности переноса компонентов этих материалов на покрытия, осаждаемые вакуумно-дуговым методом. Установлена возможность регулирования концентрации компонентов покрытия в широких пределах изменением параметров процесса осаждения: отрицательного напряжения смещения на подложке, её температуры и напряжённости фокусирующего магнитного поля. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
On an example of composite Ti-Si and Ti-Al cathodic materials features of carrying over of components of these materials on the coatings deposited by a vakuumno-arc method are experimentally investigated. Possibility of regulation of the components concentration in the coating over a wide range is established by change of deposition process parameters: negative bias voltage on a substrate, its temperature and intensity of a focusing magnetic field. |
uk_UA |
dc.language.iso |
uk |
uk_UA |
dc.publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Вопросы атомной науки и техники |
|
dc.subject |
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий |
uk_UA |
dc.title |
Перенесення катодного матеріалу в процесі вакуумно-дугового формування покриттів |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Перенос катодного материала в процессе вакуумно-дугового формирования покрытий |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Transfer of the cathodic material in the course of vakuum-arc coating formation |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
dc.identifier.udc |
621.793 |
|
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті