Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Влияние примеси германия на радиационную стойкость кремния с высокой концентрацией кислорода

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Долголенко, А.П.
dc.contributor.author Гайдар, Г.П.
dc.contributor.author Варенцов, М.Д.
dc.contributor.author Литовченко, П.Г.
dc.date.accessioned 2017-01-08T10:11:24Z
dc.date.available 2017-01-08T10:11:24Z
dc.date.issued 2008
dc.identifier.citation Влияние примеси германия на радиационную стойкость кремния с высокой концентрацией кислорода / А.П. Долголенко, Г.П. Гайдар, М.Д. Варенцов, П.Г. Литовченко // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 2. — С. 28-36. — Бібліогр.: 36 назв. — рос. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111095
dc.description.abstract Исследована радиационная стойкость образцов n-Si, выращенных методом Чохральского (Сz), с примесью германия (NGe=2•10²⁰ cм⁻³) и без нее после облучения быстрыми нейтронами. Обнаружено, что введение германия повышает радиационную стойкость n-Si. Показано, что отжиг кластеров дефектов связан с аннигиляцией вакансионного типа дефектов в кластерах с межузельными дефектами. Определены энергия миграции и частотный фактор димежузлия (Е₁=0,74 эВ; n₁=3,5•10⁶ с⁻¹), межузельного атома (Е₂=0,91 эВ; n₂=7•10⁶ с⁻¹), а также вакансии кремния (Еv=0,8 эВ; v=1•10⁷ с⁻¹). Наблюдался g-радиационный отжиг нейтронно-облученных образцов Cz-Si n-типа. uk_UA
dc.description.abstract Досліджено радіаційну стійкість зразків n-Si, вирощених за методом Чохральського (Сz), з домішкою германію (NGe=2•10²⁰ cм⁻³) та без неї після опромінення швидкими нейтронами. Знайдено, що введення германію підвищує радіаційну стійкість n-Si приблизно в сім разів. Показано, що відпал кластерів дефектів пов'язаний з анігіляцією вакансійного типу дефектів у кластерах з міжвузловими дефектами. Визначено енергію міграції та частотний фактор диміжвузля (Е₁=0,74 еВ; n₁=3,5•10⁶ с⁻¹), міжвузлового атому (Е₂=0,91 еВ; n₂=7•10⁷ с⁻¹), а також вакансії кремнію (Еv =0,8 еВ; n=1•10⁷ с⁻¹). Розглянуто g-радіаційний відпал нейтронно-опромінених зразків Cz-Si n-типу. uk_UA
dc.description.abstract The radiation hardness of Czochralski grown (Cz) n-type silicon samples, doped by germanium (NGe=2•10²⁰ cm⁻³) and without that, was investigated after irradiaton by fast neutrons. It was found that the introduction of germanium leaded to the increase of n-Si radiation hardness by a factor of 7. It was shown that the annealing of defect clusters is caused by the annihilation of vacancy type defects in clusters with interstitial defects. The migration energy and the frequency factor for di-interstitial (Е₁=0.74 eV; n₁=3.5•10⁶ s⁻¹), for silicon interstitial atom (Е₂=0.91 eV; n₂=7•10⁷ s⁻¹) and for vacancy (Еv =0.8 eV; n=1•10⁷ s⁻¹) were determined. The annealing of neutron-irradiated n-type Cz-Si by gamma irradiation was observed. uk_UA
dc.language.iso ru uk_UA
dc.publisher Інститут ядерних досліджень НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Вопросы атомной науки и техники
dc.subject Физика радиационных повреждений и явлений в твердых телах uk_UA
dc.title Влияние примеси германия на радиационную стойкость кремния с высокой концентрацией кислорода uk_UA
dc.title.alternative Вплив домішки германію на радіаційну стійкість кремнію з високою концентрацією кисню uk_UA
dc.title.alternative The influence of germanium dopant on radiation hardness of silicon with high oxygen concentration uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA
dc.identifier.udc 621.315.592.3:546.28:539.12.04


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис