Особенности формирования объемного заряда в сильноточной плазменной линзе

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення ядерної фізики та енергетики
→
Вопросы атомной науки и техники
→
Bопросы атомной науки и техники, 2003
→
Вопросы атомной науки и техники, 2003, № 4
→
Переглянути статтю

dc.contributor.author	Завалов, А.М.
dc.contributor.author	Горшков, В.Н.
dc.contributor.author	Гончаров, А.А.
dc.date.accessioned	2017-01-07T16:43:10Z
dc.date.available	2017-01-07T16:43:10Z
dc.date.issued	2003
dc.identifier.citation	Особенности формирования объемного заряда в сильноточной плазменной линзе / А.М. Завалов, В.Н. Горшков, А.А. Гончаров // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 4. — С. 60-62. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.	uk_UA
dc.identifier.issn	1562-6016
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110994
dc.description.abstract	Приводятся результаты компьютерного моделирования процесса установления стационарных состояний в сильноточной электростатической плазменной линзе, плазменная среда которой образуется широкоапертурным ионным пучком и электронами вторичной ионно-электронной эмиссии. В математической модели учитывались конкретные параметры плазменной линзы, используемой в экспериментах. Установлено образование в объеме ПЛ слоистой электронной структуры, определяемой неоднородным характером распределения внешнего потенциала на электродах-фиксаторах и изолирующего магнитного поля.	uk_UA
dc.language.iso	ru	uk_UA
dc.publisher	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Вопросы атомной науки и техники
dc.subject	Нерелятивистская плазменная электроника	uk_UA
dc.title	Особенности формирования объемного заряда в сильноточной плазменной линзе	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA
dc.identifier.udc	533.9