Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Вакуумно-дуговые источники эрозионной плазмы с магнитными фильтрами. Обзор

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Аксёнов, Д.С.
dc.contributor.author Аксёнов, И.И.
dc.contributor.author Стрельницкий, В.Е.
dc.date.accessioned 2017-01-05T20:43:32Z
dc.date.available 2017-01-05T20:43:32Z
dc.date.issued 2007
dc.identifier.citation Вакуумно-дуговые источники эрозионной плазмы с магнитными фильтрами. Обзор / Д.С. Аксёнов, И.И. Аксёнов, В.Е. Стрельницкий // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 2. — С. 190-202. — Бібліогр.: 60 назв. — рос. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110662
dc.description.abstract Кратко рассмотрено современное состояние проблемы генерирования потоков эрозионной вакуумно-дуговой плазмы, очищенной от макрочастиц катодного материала. Приведены реферативные описания 27 вакуумно-дуговых источников плазмы с магнитными фильтрами, предназначенных для использования в технологических процессах осаждения плёнок микро- и нанометрового диапазонов толщин. Использованы материалы патентов и журнальных статей, опубликованных в период с середины 1970-х годов по настоящее время. uk_UA
dc.description.abstract Коротко розглянуто сучасний стан проблеми генерування потоків ерозійної вакуумно-дугової плазми, очищеної від макрочасток катодного матеріалу. Наведено реферативні описи 27 вакуумно-дугових джерел плазми з магнітними фільтрами, призначених для використання в технологічних процесах осадження плівок мікро- та манометрового діапазонів товщин. Використано матеріали патентів та журнальних статей, опублікованих в період з середини 1970-х років до теперішнього часу. uk_UA
dc.description.abstract The present state of the problem to rid cathodic vacuum arc erosive plasma flows of macro- and nanoparticlesis briefly considered. In this paper there are presented abstract of 27 vacuum arc plasma sources equipped with magnetic filter, which are designed for use in technological processes of deposition of films of micro- and nanometer range of thickness. The data of patents and journal papers issued since the middle of the 1970th till present are used in this review. uk_UA
dc.language.iso ru uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Вопросы атомной науки и техники
dc.subject Физика радиационных и ионно-плазменных технологий uk_UA
dc.title Вакуумно-дуговые источники эрозионной плазмы с магнитными фильтрами. Обзор uk_UA
dc.title.alternative Вакуумно-дугові джерела ерозійної плазми з магнітними фільтрами: огляд uk_UA
dc.title.alternative Filtered vacuum arc erosive plasma sources: a review uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA
dc.identifier.udc 621.793


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис