Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення ядерної фізики та енергетики
→
Вопросы атомной науки и техники
→
Bопросы атомной науки и техники, 2007
→
Вопросы атомной науки и техники, 2007, № 1
→
Переглянути статтю

dc.contributor.author	Fedorovich, O.A.
dc.contributor.author	Kruglenko, M.P.
dc.contributor.author	Lukomskij, D.V.
dc.contributor.author	Marinenko, A.A.
dc.contributor.author	Polozov, B.P.
dc.date.accessioned	2017-01-04T20:05:16Z
dc.date.available	2017-01-04T20:05:16Z
dc.date.issued	2007
dc.identifier.citation	Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters/ O.A. Fedorovich, M.P. Kruglenko, D.V. Lukomskij, A.A. Marinenko, B.P. Polozov // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 203-205. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.	uk_UA
dc.identifier.issn	1562-6016
dc.identifier.other	PACS: 52.77.Bn, 81.65.Cf
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110578
dc.description.abstract	Basic problems arising at the processing of the insulation of p-n transition of photo converters at the conditions of batch production with the use of the industrial plant "Carter" are determined. The way of elimination of these problems is shown. The modernized plant "Carter" has an advantage over their foreign analogues.	uk_UA
dc.description.abstract	Визначені основні проблеми, які виникають при проведенні процесу ізоляції емітерного р-n переходу фотоелектричних перетворювачів в умовах їхнього серійного виробництва на промисловому приладі "Картер". Продемонстровано шлях усунення цих проблем. Наведені переваги модернізованого приладу "Картер" перед його іноземним аналогом при промисловому виробництві кремнієвих фотоелектричних перетворювачів.	uk_UA
dc.description.abstract	Определены основные проблемы, возникающие при проведении процесса изоляции эмиттерного р-n перехода фотоэлектрических преобразователей в условиях их серийного производства на промышленной установке "Картер". Продемонстрирован путь устранения этих проблем. Приведены преимущества модернизированной установки типа "Картер" перед ее зарубежным аналогом при промышленном производстве кремниевых фотоэлектрических преобразователей.	uk_UA
dc.language.iso	en	uk_UA
dc.publisher	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Вопросы атомной науки и техники
dc.subject	Low temperature plasma and plasma technologies	uk_UA
dc.title	Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters	uk_UA
dc.title.alternative	Модернізоване обладнання для плазмохімічного травлення ізоляції p-n переходу фотоелектричних перетворювачів	uk_UA
dc.title.alternative	Модернизированное оборудование для плазмохимического травления изоляции p-n перехода фотоэлектрических преобразователей	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA