Influence of external magnetic field on intensity and directivity of EUV radiation from high-current pulse plasma diode

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення ядерної фізики та енергетики
→
Вопросы атомной науки и техники
→
Bопросы атомной науки и техники, 2012
→
Вопросы атомной науки и техники, 2012, № 6
→
Переглянути статтю

dc.contributor.author	Borgun, Ie.V.
dc.contributor.author	Azarenkov, N.A.
dc.contributor.author	Hassanein, A.
dc.contributor.author	Tseluyko, A.F.
dc.contributor.author	Maslov, V.I.
dc.contributor.author	Ryabchikov, D.L.
dc.contributor.author	Grechko, Y.
dc.date.accessioned	2016-11-21T20:03:34Z
dc.date.available	2016-11-21T20:03:34Z
dc.date.issued	2012
dc.identifier.citation	Influence of external magnetic field on intensity and directivity of EUV radiation from high-current pulse plasma diode / Ie.V. Borgun, N.A. Azarenkov, A. Hassanein, A.F. Tseluyko, V.I. Maslov, D.L. Ryabchikov, Y. Grechko // Вопросы атомной науки и техники. — 2012. — № 6. — С. 184-186. — Бібліогр.: 2 назв. — англ.	uk_UA
dc.identifier.issn	1562-6016
dc.identifier.other	PACS: 52.58.Lq, 52.59.Ye
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/109212
dc.description.abstract	This work is devoted to evaluate the influence of the additional external magnetic field on dynamics of the radiation in the extreme ultraviolet (EUV) range from multi-charged tin plasma of high-current pulse diode. Investigations have shown that the use of an additional external magnetic field has improved the stability of the plasma diode, enhanced the intensity of radiation, and changed the radiation profile.	uk_UA
dc.description.abstract	Работа посвящена оценке влияния дополнительного внешнего магнитного поля на динамику излучения в диапазоне вакуумного ультрафиолета (ВУФ) из многозарядной плазмы олова сильноточного импульсного диода. Исследования показали, что использование внешнего магнитного поля позволяет улучшить стабильность работы плазменного диода, повысить интенсивность излучения и изменять диаграмму направленности излучения.	uk_UA
dc.description.abstract	Робота присвячена оцінці впливу додаткового магнітного поля на динаміку випромінювання в діапазоні екстремального вакуумного ультрафіолету (ВУФ) з багатозарядної плазми олова сильнострумного імпульсного діодa. Дослідження показали, що використання зовнішнього магнітного поля дозволяє покращити стабільність роботи плазмового діодa, збільшити інтенсивність випромінювання та змінювати діаграму спрямованості випромінювання.	uk_UA
dc.language.iso	en	uk_UA
dc.publisher	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Вопросы атомной науки и техники
dc.subject	Низкотемпературная плазма и плазменные технологии	uk_UA
dc.title	Influence of external magnetic field on intensity and directivity of EUV radiation from high-current pulse plasma diode	uk_UA
dc.title.alternative	Влияние внешнего магнитного поля на интенсивность и направленность ВУФ-излучения из сильноточного импульсного плазменного диода	uk_UA
dc.title.alternative	Вплив зовнішнього магнітного поля на інтенсивність та спрямованість ВУФ-випромінювання з сильнострумового імпульсного плазмового діоду	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA