Неоднородные распределения в моноатомном слое в условиях осаждения извне

Abstract

Теоретически изучаются особенности осаждения атомов на поверхность. Предполагается, что условия осаждения обеспечивают формирование только одного слоя. Основное внимание уделяется особенностям микрораспределений в монослое и влияние этих особенностей на свойства поверхности. Анализируется возможность реализации мезо- и макронеоднородностей моноатомной пленки в условиях однородного внешнего воздействия. Выявлены условия возникновения неоднородностей. Показано, что варьирование интенсивности внешнего воздействия и температуры сопровождается качественными перестройками поверхностного монослоя.

Теоретично вивчаються особливості осадження атомів на поверхню. Передбачається, що умови осадження забезпечують формування лише одного шару. Головним чином увага звертається на особливості мікророзподілів в межах моношару та вплив цих особливостей на властивості поверхні. Аналізується можливість реалізації мезо- і макронеоднорідностей моноатомної плівки в умовах однорідного зовнішнього впливу. Виявлено умови виникнення неоднорідностей. Показано, що варіювання інтенсивності зовнішнього впливу і температури супроводжується якісними перебудовами поверхневого моношару.

Peculiarities of atom sedimentation onto the surface are theoretically explored. It is assumed that sedimentation conditions provide formation of only one layer. Main prominence is given to the peculiarities of microdistributions in monolayer and their influence on surface properties. Possibility of meso- and macroinhomogeneities realization within monatomic film under homogeneous external influence is analyzed. Conditions of inhomogeneities occurrence are revealed. It is shown that the variation of the intensity of external influence and temperature is accompanied by a qualitative rear-rangement of the surface monolayer.